2纳米芯片成功破冰！中科院技术“全球首创”，14纳米生产线首次公开

根据中芯国际对外公开的财报显示，国内首条14纳米芯片生产线在上海已投入使用，中国14纳米级芯片已经突破量产，而能耗下降20% 、性能提高10%的12纳米级芯片订单已经开始导入，各种现象表示中芯国际已经开始了下一代芯片半导体的研发进程。

在7nm以上的光刻机上，ASML公司一直在向我国供应光刻机。目前，ASML在中国的光刻市场正在迅速增长，约占全球市场份额的19%，超过了美国的16%。可以说，ASML不能忽视中国的光刻市场，这些因素关系到双方的未来。

要知道，芯片制造最关键的一步是光刻，所以不同的纳米光刻机决定了不同精密芯片的制造。中国要想征服7纳米芯片，就必须首先开发一台7纳米EUV光刻机。

EUV深紫外光刻机属于第五代光刻机，在世界上只有一家荷兰公司掌握生产工艺。目前，中国芯片的生产已逐渐走在世界前列，并超过了1000多个国家。5万亿美元的投资已经下降到12英寸的晶片生产上。我国高精度芯片的研发不仅处于世界前列，对光刻机的需求也迫在眉睫。

正如世界正在进一步研究和制造7纳米芯片一样，中国科学院成功地征服了2纳米芯片所需的关键技术--垂直纳米栅晶体管，这为中国未来2nm半导体的研究和开发奠定了基础，可以说是世界上第一位。这也是中国在高精度芯片的研究和开发方面第一次处于世界领先地位。