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上海微电子光刻机在全球属于什么水平?

上海微电子光刻机在国内是最先进的光刻机研发制造企业,其前道光刻机能够实现90nm制程,在国内市场份额超过80%,并且也销往国外。但与国际先进光刻机相比,上海微电子光刻机却处于低端光刻机序列。

目前光刻机市场几乎被荷兰ASML、日本尼康和佳能、中国上海微电子设备集团四家所垄断。而在这里面,又分为三个档次,荷兰ASML垄断了高端光刻机市场份额,日本尼康和佳能处于中端但同时竞争中低端市场,而上海微电子只有低端光刻机市场。其中ASML采用13.5nm的光源,可以实现7nm的制程,未来还将会实现更小nm的工艺。而上海微电子目前只能实现90nm工艺制程,差距不小。

上海微电子集团成立于2002年,成立之初当时国外公司曾经嘲讽:“即使把图纸和元器件全部给你们,你们也装配不出来。”。然而上海微电子经过自力更生艰苦奋斗,硬是打脸了国外公司的脸,在2007年研制出了我国首台90nm制程的高端投影光刻机。

不过由于样机一出来因为采用了国外引进的高精度元器件,这时西方国家丑恶的嘴脸暴露了出来,摆出了《瓦森纳协议》共同对我国实现高精度元器件禁运。以至于到目前即使研究出更好的光刻机,要大量生产也受到了国内产业链的限制。但上海微电子硬是凭借一口气,还是又研制出了另外的光刻机出来,并逐渐在国内赢得了市场。

现在国内已经意识到光刻机相当重要的作用,中芯国际已经花了将近1.5亿美元引进ASML高端光刻机,但过去了两年还未能交货,因为国外有阻扰要得到这台高端光刻机会经过不少波折,最后也不知道能不能成。国内相关的机构也在重点突破光刻机技术,比如中科院光电所已经研究出光刻分辨力达22nm的技术,结合双重曝光技术可以实现10nm芯片的制造。

不过光刻技术攻克后,要实现光刻机量产还有不少的时间。特别是需要几万个零部件要达到高精准度的高端光刻机,其中的关键高精度零部件比如镜头、光源、轴承等,目前国内产业链还达不到,也需要联合攻关才能取得,这需要花费不少的时间。就如中科院微电子所院士所说,在光刻机方面国内与国外先进相比相差15-20年的距离。即使是国内最先进的上海微电子,也还有相当长的路要走。

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20200215A0MGY300?refer=cp_1026
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