全球首创！中科院再立大功，攻破2纳米芯片关键技术，令世界惊叹

随着中国经济的增长，我国在科技领域的发展也取得了一些成就，受到了人们的关注。但是这些领域的进步也不是那么容易的，都是由无数的科研人员不懈奋斗取得的成果，我们最应该要感谢的就是他们。近日中国科学院已经攻克了2纳米芯片的关键技术，之后实现量产也只是时间问题了，现在我们国家已经突破了14纳米芯片生产线的难题，之后2纳米级芯片的量产也将实现。

由于现代科学技术的不断向前发展，人类在电子技术领域取得了巨大的发展，而电子领域是离不开技术支持的，也是最难突破的一个领域。想要在这方面有所成果，必须有着雄厚的资金和高科技研究人员的支持。我们今天要讲的就是电子信息领域，最重要的环节就是芯片的制造。

大家都知道，芯片是属于非常高端的技术，芯片的体积都是非常小的，可就是这么一个小小的玩意，却被国外卖出了天价，因为它是所有智能机器的核心部分，要是机器没有了这个东西，那么就无法更好地去运转。而这么一个重要的芯片，制造难度就可想而知了。需要更多的技术融入和积累，才能取得一些突破成果。

而芯片制造中最关键的设备就是我们常说的光刻机。光刻机是制造芯片的高端设备，它可以在芯片上刻画出研究人员提前做好的程序，让所有的机器能够按照这个程序运转起来。简单来说，它就类似于一个至关重要的大脑指挥系统，对所有的小兵发号施令，让它们按照已经设计好的路线动起来。如果不能解决光刻机制造的问题，那么就不能够保证高端芯片的质量，也就不能保证这个国家高端领域的发展。

目前我国现有的光刻机精度仅仅是45纳米，这个技术放到现在的国际环境中看，是相对落后的。而更高技术的EUV高精度光刻机研发更是艰难，荷兰有一家公司研发了20年，直到去年才投入了7纳米EUV光刻机的商用生产线。放眼全球，全世界现在仅就荷兰这一家公司掌握了这种制造技术，中国已经从荷兰订购了一台这样的光刻机，不过因为美国的阻拦，一直没有成功交付。而我国对于芯片的需求也是非常巨大，所以对光刻机的需求也是迫在眉睫的。

就在全球最先进的芯片停留在7纳米这一步时，中国研究人员已经攻克了2纳米芯片的关键技术，为我国在芯片领域的发展打好了基础，这也是我国中科院的全球首创技术。如果荷兰公司的光刻机能够顺利交付，那么我相信国产的芯片制造将迈上一个新的台阶。

而现在突破了2纳米芯片的关键技术，之后实现量产也只是时间问题了，现在我们国家已经突破了14纳米芯片生产线的难题，之后2纳米级芯片的量产也将实现。这一切都要感谢我们的科研人员，是他们不懈努力的研发，才让我们有了更高水平的技术，他们才是祖国最可爱的人！