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国产光刻机发展举步维艰,上海微电子成功突围,国产光刻机迎来曙光

光刻机是半导体产业中最关键设备,也被誉为半导体产业皇冠上的明珠。工欲善其事,必先利其器,要想半导体产业突破技术封锁,要想开发先进的半导体制程,就必需要有先进的光刻机。那么,我国光刻机龙头企业上海微电子的发展现状如何呢?我们和国外的光刻机设备厂商存在哪些差距呢?

随着芯片的使用越来越广泛,制造芯片必不可少的设备——光刻机近年来也逐渐受到人们的关注。而我国一直以来都难以制造出最先进的光刻机,这也成为了我国半导体行业永远的“心病”。

而且光刻机的技术是需要多方面的集成,有来自德国的技术,比如说镜头就是来自德国的蔡司,还有美国的光栅元器件,瑞典的重要轴承,法国的阀件等等众多重要的设备都是来自不同国家提供的,所以使得光刻机制造难度更加之大。

然而,最近传来的好消息是,光刻机的问题可以得到有效的解决。据悉,上海微电子有限公司在紫外光源的帮助之下,成功实现了22nm的突破,推动了国产光刻机的发展,向前迈进了一大步。一旦技术成熟,意味着22nm光刻机将在中国问世,这将推动国产芯片的进一步发展,同时也给其他平版印刷厂家带来了信心,这将有助于推动更多的厂家共同打造国产光刻机,提高中国在国际市场之上的竞争力。

虽说在光刻机领域我国取得了新的进展,但是目前国内光刻机生产所需要的零部件依然需要从国外市场进口,很显然在光刻机的生产过程中,我国对国外的依赖还是比较大的。不过,不管多难,我国企业都不能放弃,光刻机的自主研发是一个漫长的过程,日后还需要不断努力,争取将核心技术和供应链全都掌握在自己手中,期待日后国产光刻机能够在国际市场中取得更好的成绩,让国产芯片在全球市场立足。

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20200411A0K6QE00?refer=cp_1026
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