中国芯片再传捷报！国产光刻机拐弯超车，攻克9nm技术难关！

中国的高科技芯片制造一直偏于落后水平，原因主要是因为起步晚起点低，外国又对高新技术进行封锁，所以，我国对芯片这个高科技领域的发展也非常的重视。生产芯片过程中必不可少的一个设备-光刻机，最近中国关于光刻机的话题又闹的沸沸扬扬的。世界上制造光刻机最有名的是ASML，中国也正在采购它家的高级刻录机，但是，ASML向荷兰当局申请出口许可4个月了，但一直没有得到许可，导致ASML无法按时交货。

实际上，从现阶段来看，包括华为在内的中国科技企业都已经突破了芯片设计的技术瓶颈，但是芯片制造环节依旧是最大的短板，其中，制造芯片的光刻机也成为了重中之重。不过有碍于光刻机巨头-荷兰ASML的政策限制，使得国内高科技技术企业无法购买ASML的高端光刻机，因此对于我国而言，掌握光刻机技术也变得迫在眉睫。

不过在近日，中国芯片再传捷报，国产光刻机拐弯超车，攻克9nm技术难关！根据相关媒体的报道，由我国武汉光电国家研究中心的甘棕松团队，成功研发出9nm工艺光刻机。刻出了最小9nm线宽的线段，这是我们独有的技术，我们也将拥有自主产权。不过，现阶段9nm光刻机技术还仅限于试验阶段，但是作为国人的我们有理由相信，在不久的将来，国产光刻机必然会走出实验室，实现芯片量产。