突破枷锁！中国首台超分辨光刻机现世，西方国家至今不愿相信！

中国成功突破垄断！自主研发首台超分辨光刻机现世，西方国家至今都不愿相信！至今发展国产芯片是我们共同的愿望，因此芯片在未来能起到很好的作用。但中国在发展芯片的道路上，也遇到了前所未有的挑战。目前高端的光刻机技术主要掌握在日本、荷兰手中，并且荷兰更是这个行业的霸主。但由于种种的原因，荷兰也是永久的对我国进行封锁。其实目的想必也很简单，主要害怕我们国家琢磨透而影响他们。

所以面对这样重重的困难，我们国家也是毅然决然的想自己研发光刻机。由于是从零开始，因此这个过程也是十分麻烦的。但经过专家们不断的研究和探索。

也是终于突破枷锁，并且他们采用二束激光在自研的光刻机上，成功的突破了光束衍射极限的限制，因此也是研发出了9纳米的线宽。虽然和西方的光刻技术有所却别，但也可以说是自主研发的了。

因此从无到有能取得这样的成就，也是相当不容易的。相信在不久的将来，这种技术很快的从实验室走向应用。但很多国家听到这个消息时，都有着怀疑的眼光。