2纳米芯片成功破冰！中科院技术全球首创，14纳米生产线首次公开

从2018年末荷兰ASML光刻机公司工厂的一场火灾开始，中芯国际的光刻机进口之路开始波折起伏，其花费近8.2亿购买的一台EUV深紫外光刻机，是否会延迟交付我们不得而知。但经过一整年时间，荷兰出口EUV光刻机到中国的许可证由于到期，到现在也迟迟没有续期，导致EUV光刻机交付进一步推迟。而中芯国际制造7纳米芯片所用的关键设备，EUV光刻机则是重中之重，可以说没有这台EUV光刻机。

长久以来中国的企业都依赖于国外的芯片制造技术，从国外大量进口芯片产品，这也是我国企业受到国外技术控制的原因之一。但是我们中国也不愿意受人控制，所以一直积极谋求芯片技术的发展，而芯片制造要依赖于光刻机这一机械设备。

目前，中国能够自行制造的光刻机的精度仅能达到45纳米而已，不说2纳米的技术了，就连28纳米的光刻机也正处于研发之中。由此看来，我国虽然掌握着很先进的芯片技术，但却没有一个对应的光刻机来生产这些芯片，中国的半导体产业还有很长的一段路要走。反观荷兰，ASML公司早在上世纪末就开始着手EUV光刻机求的研发，如今更是站在了世界的顶端，就连美国也远远不能企及。