从2018年末荷兰ASML光刻机公司工厂的一场火灾开始,中芯国际的光刻机进口之路开始波折起伏,其花费近8.2亿购买的一台EUV深紫外光刻机,是否会延迟交付我们不得而知。但经过一整年时间,荷兰出口EUV光刻机到中国的许可证由于到期,到现在也迟迟没有续期,导致EUV光刻机交付进一步推迟。而中芯国际制造7纳米芯片所用的关键设备,EUV光刻机则是重中之重,可以说没有这台EUV光刻机。
长久以来中国的企业都依赖于国外的芯片制造技术,从国外大量进口芯片产品,这也是我国企业受到国外技术控制的原因之一。但是我们中国也不愿意受人控制,所以一直积极谋求芯片技术的发展,而芯片制造要依赖于光刻机这一机械设备。
目前,中国能够自行制造的光刻机的精度仅能达到45纳米而已,不说2纳米的技术了,就连28纳米的光刻机也正处于研发之中。由此看来,我国虽然掌握着很先进的芯片技术,但却没有一个对应的光刻机来生产这些芯片,中国的半导体产业还有很长的一段路要走。反观荷兰,ASML公司早在上世纪末就开始着手EUV光刻机求的研发,如今更是站在了世界的顶端,就连美国也远远不能企及。
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