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南大光电突然宣布!国内光刻机有望“破冰”,日本、美国始料未及

南大光电宣布好消息

自从华为承受美国的打压以来,国内对于芯片技术层面上的突破就显得尤其重视,毕竟谁也不想被美国总拿这个“卡脖子”。但是碍于光刻机研究进展的缓慢,国内的芯片技术一直没能取得大的成绩。

有人可能会问光刻机和芯片有什么关系,光刻机的进展缓慢为什么能影响到芯片技术?其实简单点来说,光刻机就是芯片生产过程中必不可少的机器,也就是说,没有高端光刻机就无法生产出顶级的芯片。

国内对于光刻机的研究已经持续很长时间了,但是在高端光刻机上还是没能突破,并且就算是想进口,别人也不乐意卖给我们。这个时候,我们唯一的办法就只有努力研究了,争取早日研究出国产高端光刻机。

其实在芯片制造过程中还有一种非常重要的技术,那就是光刻胶技术,如果没有光刻胶,就算你有高端光刻机也是白费,可以说光刻胶技术也是一种非常重要的技术。

近日,国内的南大光电就传出了一个好消息,正与光刻胶技术相关。南大光电传出消息:目前国产ArF光刻胶取得了重大的突破,可以用于7nm工艺,即将进入量产及销售阶段。

这也就意味着国内在光刻机顶尖技术中取得了巨大的突破,并且能在光刻胶市场分一杯羹。要知道在之前的光刻胶市场,国内基本上是排不上号的。此次南大光电完成技术突破不仅能帮助我们占据更大的市场,还能给予国内光刻机研究更多的信心。

日本、美国始料未及

在之前的光刻胶市场,日本和美国两者加起来差不多占据了90%的市场,也就是说二者对光刻胶有着绝对垄断的技术。但是此次南大光电完成突破,让日本、美国始料未及,也证明了即使不依赖国外的技术,国内也能发展得很好。

据公开资料显示,之前在全球光刻胶市场排行前五的公司,有四家来自于日本,第五名来自美国。可见日本在光刻胶领域基本上是全球领先,就连美国也只是在他身后喝汤。

但是日本也造不出高端光刻机,因为仅仅掌握顶尖的光刻胶技术远远不能满足于高端光刻机的制造。这是因为高端光刻机是多种顶尖技术的复合,不是只需要其中一种就能行的,你需要同时掌握多种核心技术才有可能造得出来。

显然,高端光刻机的制造要比掌握顶尖的光刻胶技术难得多。这也给我们提了个醒,我们不能因为在光刻胶领域取得了突破就沾沾自喜,我们要清楚,我们离造出高端光刻机还有很远的距离。

但是我们也不能因此气馁,因为高端光刻机是我们必须攻破的领域,不然的话,以后就会因为缺失这方面的技术而发展处处受限。为了现在的情况以及长远的打算,高端光刻机的研究是很有必要的,国内应该大力支持!

总结

南大光电传出在顶尖光刻胶上有所突破的消息值得我们开心,这无形之中给国内的光刻机研究增添了许多信心,也给我们国内的科研工作者带来了希望。如果光刻胶技术都能完成突破的话,那么光刻机研究一定也能成功突破!

对于国内光刻机的研发你们怎么看呢?你们认为国内能自研出高端光刻机吗?

  • 发表于:
  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20200526A0K1NR00?refer=cp_1026
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