科技是第一生产力,一个国家的科技实力与其经济、民生等相联系,随着我国科技不断发展,越来越接近西方国家的脚步,正是由于我国不断进步的科技成为了有些西方国家遏制中国的头号目标,今年华为遇上前所未有最严厉的制裁,美国为了打压一个民营企业费尽心思,然而,现在华为将面临一个天大难题,自研光刻机。
面对西方断供芯片,求别人还不如靠自己,靠自己才更实在,自己研发芯片供应给华为,可以说目前往这条路走是最可靠,但是这路上需要解决的难题可是光刻机,想要有芯片就得先有光刻机。要知道,在众多科技当中,有三大科技是西方打死不卖的,其中就有光刻机,那么中国可以自研出光刻机吗?
在科技领域,半导体是核心科技,那么光刻机就是核心科技中的核心科技,没有光刻机就别谈制造芯片了,光刻机如此重要,西方对光刻机这一科技保护得死死的,因此,世界上只有一家尖端光刻机巨头——荷兰的ASML公司。
目前美国和日本在半导体行业中处于领先地位,但是美日两国也无法自研光刻机。因为高端光刻机需要全球各国的顶尖科技集合在一起才能研发出来,比如集合了,德国的蔡司镜头技术设备、日本的特殊复合材料、美国的控制软件等等。也就是说,世界上没有一个国家可以单独研发出高端光刻机,需要结合各国的高端科技才行。
研发光刻机不仅难度极高且投资巨大,曾在2012年,光刻机巨头ASML表示光刻机太难了,撑不下去了,让美国等国家知道后,一来就砸钱给ASML,共投资了424亿元。可见,西方真的非常重视光刻机,对他们来说钱不是问题,研发不出光刻机才是问题。现在他们已经研发出最新的EUV光刻机,而我国还在制造5nm芯片当中。
2016年,我国上海微电已成功自研90nm精度的光刻机,这90nm的光刻机对我国来说意义非凡,就算西方对我国断供,我国整个工业系统依然能正常运行。到了2018年,已经可以制造出10nm工艺芯片,现在中芯国际已经制造出7nm的芯片。面对世纪难题,中国也能奋战到底,勇往直前。
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