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半导体巨头突然宣布!国产芯片再上一层楼,日本、美国始料未及

南大光电宣布好消息

南大光电全称是江苏南大光电材料股份有限公司,专门生产在半导体行业中占据着重要地位的MO源产品,是国内半导体材料行业中的佼佼者。

近日南大光电传出了一则好消息,国产ArF光刻胶技术取得了巨大突破,已经可以用于22nm芯片的工艺上了,并且目前已经掌握了量产和销售的手段。

这则好消息一经传出,对此有了解的人都表示很兴奋,认为有了此次突破,国产芯片将再上一层楼;而对此没有太多了解的人则有些不明所以,表示难道光刻胶技术是什么很难的技术吗?

确实光刻胶技术是半导体工业中比较难突破的一种技术,但是光刻胶却在芯片的生产中占据着重要的作用,可以说是密不可分!

大家都知道,生产芯片的过程中需要光刻机,比如说你想要生产一颗高端芯片,就必须拥有对应的高端光刻机,但是只有光刻机也不行,还需要光刻胶。

显然,光刻机和光刻胶都是生产芯片必备的东西,但是由于光刻机被人提起的多,而光刻胶被人谈论得少,所以导致很多人都不知道光刻胶是什么。

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料,也就是芯片生产的关键材料之一。所以说国内在光刻胶上面取得的突破也就是在芯片行业上取得突破,二者是密不可分的,毕竟现在光刻胶的主要应用就在于芯片的生产。

其实国内的芯片工业一直都比较落后,这是由于我们在这方面起步较晚,并且长期受到国外的技术封锁和人才垄断。但是现在国内的半导体发展已经走上了正轨,并且在逐步完成多发达国家的追赶甚至是超越。

此次南大光电宣布的好消息,不仅让国内的半导体行业更上一层楼,还给我们的科研工作者带来极大的鼓舞作用,让他们相信,只要努力研究,总有一天会取得突破的!

日本、美国始料未及

如果说国内的光刻胶技术取得突破最让谁感到不乐意的话,那一定非日本和美国莫属了,因为这两个国家一直都是光刻胶市场的垄断者,其中特别是日本,是当之无愧的光刻胶领域龙头老大。

在国产光刻胶突破之前,日本和美国占据去了全球50%的光刻胶市场,并且世界上排名前五的光刻胶公司中,前四个都是日本的,第五名则来自于美国。

但是以后的情况一定会有所改变,因为国内的光刻胶取得巨大的突破,自然要发挥它的价值,占据一部分市场自然是它的价值的最好体现。日本和美国显然对我们国内能在这方面取得突破也是始料未及,不过现在后悔也来不及了!

在日本的美国的垄断下,我们依然能在光刻胶领域取得重大的突破,这点值得我们为之自豪,而且这也同时表明了国内科研人员的智慧并不比国外科学家差,国内的技术也并不比国外的技术差!

总结

随着时间的发展,国内的半导体事业也在快速发展,虽然发展之路不是那么顺利,中间充满了考验,但是不经历风雨怎么能见彩虹,不吃苦怎么能成功!

相信国内一定会在接下来的时间里继续取得突破,再创佳绩,为半导体事业发展添砖加瓦,而我们总有一天能实现技术自主,真正的成为一个科技强国!

  • 发表于:
  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20200528A0FB2900?refer=cp_1026
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