经常关注国际新闻的朋友们一定清楚,近两年来中美关系紧张,几次协商都未能够达成共识。
中美贸易摩擦不仅成为了政府工作的重要内容,同时也直接影响到了我国市场的运营,以及人们的日常生活,其中最具代表性,也是大众最为熟悉的就是美国对我国实行的芯片制裁政策了,美国企图运用其在芯片领域的领先优势,对我国企业大加打压,致使其走向破产的结局。
然而如今看来美国的这一计划是难以实现了,中国芯屡次传来捷报,如今国产光刻机已经打破了技术封锁,即使是没有ASML公司的支持,中国照样独立自主生产芯片。
随着新闻的大加报道以及人们的热议,对于光刻机这一设备,很多人已经十分熟悉。这是芯片生产领域至关重要的一项设备,不仅直接决定了芯片的质量如何,同时还将对芯片制造的速度产生影响。
能够拥有国际先进的光刻机,对于我国芯片技术的成长自然是具有重要作用的,然而在国际市场,先进的光刻机被荷兰的ASML公司所垄断。
如今美国从中多次干扰,阻止该公司与我国企业的合作,导致该公司之前答应为我国企业提供的光刻机,久久未能交货。
在此紧要关头,我国一家叫做上海微电子的企业挺身而出,宣布已经成功研发出了28纳米的光刻机。根据该公司研发人员的介绍,他们设计的光刻机在2021年就能够正式交付使用。而随着大家的关注,这一公司在光刻机领域的研发进程也将进一步加快。
当前来看这一企业制造的光刻机自然是无法与ASML的先进技术相抗衡的,但是这是我国独立自主研制芯片道路上的重要一步。
我们也相信,以这一光刻机的诞生为基础,给予中国企业更多时间的话,我国完全有能力制造出国际先进标准的光刻机。就此打破美国的压制,只是时间的问题。
好了,今天就为大家介绍到这里,我们下一期再见!
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