中国芯传来好消息，光刻机重要零件有望“破冰”，将打破美日封锁

不可否认，在全球科技发展史中，我国一直都扮演着追随者的角色，由于科技发展程度与西方国家有着很大差距，导致曾经的中国，在国际舞台上的话语权较低。但在过去的时间中，我国对科研的重视程度只增不减，于是在大量的人力物力投入后，我国当前也在众多高科技领域也成功实现了弯道超车。

以通信和互联网为例子，当前我国掌握着全球最多的5G专利技术，在第五代通信革命中拥有着绝对的话语权。在互联网领域，当前我国无论是电商、网约车，还是其他新兴产业的发展，基本可以与美国比肩。可是，需要知道的是，当前中国科技虽然取得了理想的成绩，但是芯片发展受限于人也是我们应该正面审视的一道问题。

在一般情况下，芯片的生产包括两大环节，一个是芯片架构设计，另一个则是芯片制造环节。可是困扰中国芯发展的并非是设计，而是制造，尤其是在芯片制造过程中不可或缺的设备-光刻机更是成为了攻克中国芯的一大难题。即便在当前，光刻机无法突破技术瓶颈，但是中国芯还是传来了好消息。

虽然，光刻机在芯片制造过程中的重要性不言而喻，但是光刻胶同样也光刻机不可或缺的重要零部件，同时也微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，其重要性不言而喻。而在近日，作为中国半导体公司的南大光电在光刻胶领域传来了好消息。

据了解，当前国产ArF光刻胶取得了重大的突破，可以用于22nm工艺，即将进入量产及销售阶段。然而这也意味着，当前中国企业在光刻机市场上取得了重大的突破。而作为光刻机设备中重要的材料之一，光刻胶自主研发成功，也会对中国光刻机领域的整体发展起到积极促进作用。

其实，在此前的全球光刻胶市场，基本都是由美国和日本为主导，两者在全球市场占有率一度达到90%以上，将整个市场垄断。此外，全球光刻胶市场排行前五的公司，有四家来自于日本，第五名则是美国公司，因此南大光电在ArF光刻胶的投产，也意味着我国在研发光刻机领域之际，所需要的光刻胶材料也无需受限于人。

总结：华为突破芯片架构设计瓶颈用了10年时间，而光刻机的制造属于高难度，高精度的工作，想要在短时间内实现突破也并非容易之事，所以对于我国而言，一点一点攻克，一点一滴累积终究一日会在芯片设计、制造领域打破美日等国家的技术封锁。对此，大家怎么看？