光刻机研发难度极大，美国、日本都无法实现，中国该如何自研？

现如今，我国在芯片技术领域中仍有许多需要完善的技术，并且在这些技术领域中，我国还仍有很长的一段路需要走。而在我国仍在前行的时候，我国华为遭遇了美国在芯片领域中的高压限制，这让我国很多科技企业都敲响了警钟，我国一天不在芯片领域中取得突破，美国的技术限制就会一直限制我国科技企业的发展，因此现如今我国在芯片领域中铆足了劲向前冲。

但是在芯片领域中，一直有着一个就算铆足了劲向前冲都难以攻克的技术壁垒，那就是光刻机技术。在芯片领域中，光刻机极为重要，没有光刻机就无法进行芯片生产，因此我们可以说没有光刻机就没有芯片的诞生。但是在光刻机领域中，我国现如今还受着美国的技术限制，我国在前段时间向荷兰ASML订购的普通光刻机已经到货，但是我国在更早之前订购的紫外光刻机现如今都还没有收到，因此可见西方各国对光刻机的重视。

那么光刻机研发难度有多大呢？现如今全世界半导体技术最为发达的国家就是美国、日本，但是这两个国家都没有成功将整个光刻机技术研发出来，因此可见光刻机研发难度极大，而能够生产光刻机并外销的企业就仅有荷兰ASML，而且荷兰出口的光刻机其实是综合了世界各国尖端技术的产物，在荷兰ASML的光刻机中，有着德国的尖端镜头设备、日本的特殊材料、瑞典的精密工业机床技术、美国的控制软件等等....总而言之，现如今光刻机并不是一个国家能够就能够凭借一己之力打造的，就算是美国、日本这样的技术大国都无法实现！

那么面对如此“可怕”的技术难关，中国该如何实现自研呢？总而言之，埋头努力、刻苦攻坚、永不放弃！我国相较于世界各国进入科技发展时期较晚，但是我国在基建、5G等技术领域中还是成功领先，并且我国在这些领域中也都是从零开始的，因此在光刻机领域中，我国也能够凭借着永不放弃的强大科研精神将其成功研发！