一个好消息，中科院2nm取得突破！一个坏消息，中国芯最大阻碍？

如今，芯片之争愈演愈烈，川普禁令不断升级，未来局势将如何发展现在还很难说。不过，就目前的情况来说，川普的每一招都被华为有惊无险的化解了。

然而，这一系列的事件，使我们更加意识到掌握核心科学技术的重要性。毕竟，历史也不断告诉我们落后就可能挨打，只有掌握核心科学技术才能不受制于人。

最近，中国芯不断传来好消息。近日，又一好消息传来，中科院成功突破了2纳米芯片技术的瓶颈，站上了世界第一的位置，这实属不易。要知道，目前国际上芯片技术的研发还停留在5纳米的阶段，并且不断向着3纳米芯片进军。不过，这次中科院在2纳米领域取得的硕果，备受世界瞩目。也无疑为中国芯的发展，提供了坚实的技术支持。

不过坏消息是，中国芯始终面一个最大阻碍，那就是光刻机的制造技术。一枚芯片的诞生需要芯片设计与芯片生产。在芯片设计上，华为一直走在世界前列，这次中科院突破2纳米芯片技术，无疑是使中国芯设计水平更上了一层楼。

在芯片生产上，简单可分为半导体材料，芯片切割，芯片雕刻。所以，芯片简单的理解就是把玻璃分割成很小一块，再在这块小玻璃上用很细的针雕刻出线路。目前，我们在半导体材料上取得了从硅基到碳基的突破，在分割上也拥有了自己独立研发的分割机。

所以，中国芯目前最大的阻碍，其实是在光刻机上。这也是中科院突破2纳米芯片技术瓶颈，但我们还无法实现2纳米芯片的量产。所以，只要我们在光刻机技术上一旦取得重大突破，那么中国芯的最大阻碍也就不复存在。

可喜的是，去年中芯国际已经成功实现了14纳米芯片的量产，以及实现了7纳米芯片的正式投产。相信我们的科研人员，相信我们将实现跨越式的发展！

关于中国芯的光刻机问题你怎么看？欢迎留言讨论！