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好消息!中国国产光刻机获得突破,技术超越日本,稳居全球第二

我国现在对于半导体的需求已经超过了全球近三分之一,正是因为我们的需求量大,而又需要面对美国对我们的技术封锁,我国最大的困境就是不能拥有独立自主知识产权的芯片技术,很多方面都是需要进口的。

但是正是因为现在的芯片困境,让我们知道了自主研发的重要性,记得上海微电子曾经说过要在2021年之后交付28NM技术的工艺,在短短两年之内就能做到这样,无疑是让我们看到了中国芯的希望。

而这次他们又带来了好消息,他们有了重大的突破,在光刻机方面已经研制了22nm的工艺,也就是我们在不久的将来会拥有属于自己的光刻机,而不是依靠荷兰的公司,虽然我们之间的科技技术还相差很大。

但是这是一个很重要的科技进步,并且在技术上我们已经超越了日本,成为了位居荷兰之后的全球第二位,其实荷兰的光刻机其中有不少都是美国的专利,所以他想遏制住我们是很简单的,但是我们有了自己的光刻机那就会扭转局势。

22nm的紫外线工艺已经是国内的极限了,这个跟荷兰的5nm还相差很多,但是这并不是我们气馁的理由,中芯国际虽然已经拿到了荷兰公司的7nm的光刻机,但是因为收到阻扰并没有完成交付,对于我国的5G技术形成了阻碍。

但是这次的光刻机重大突破,就会出现改观,上海微电子功不可没,现在的上海微电子和比亚迪已经有了完整的产业链,已经超过了日的中高端市场,ASML公司的技术并不是荷兰一家的,而是整个西方世界的技术整合,所以我们的对手其实是整个西方世界。

我觉得荷兰光刻之所以这么先进就是因为技术早走一步,中国是后来者,只要中国科枝工作者不懈努力,不久的将来光刻机技术及制造一定赶超荷兰,崇洋媚外者就不要无限放大前进道路上的困难,吓退前进中的中国科技,西方国家能够完成的,我相信我国就一定是可以的,只是时间问题。

好了今天就为大家介绍到这里,我们下一期再见!

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