好消息！中国国产光刻机获得突破，技术超越日本，稳居全球第二

我国现在对于半导体的需求已经超过了全球近三分之一，正是因为我们的需求量大，而又需要面对美国对我们的技术封锁，我国最大的困境就是不能拥有独立自主知识产权的芯片技术，很多方面都是需要进口的。

但是正是因为现在的芯片困境，让我们知道了自主研发的重要性，记得上海微电子曾经说过要在2021年之后交付28NM技术的工艺，在短短两年之内就能做到这样，无疑是让我们看到了中国芯的希望。

而这次他们又带来了好消息，他们有了重大的突破，在光刻机方面已经研制了22nm的工艺，也就是我们在不久的将来会拥有属于自己的光刻机，而不是依靠荷兰的公司，虽然我们之间的科技技术还相差很大。

但是这是一个很重要的科技进步，并且在技术上我们已经超越了日本，成为了位居荷兰之后的全球第二位，其实荷兰的光刻机其中有不少都是美国的专利，所以他想遏制住我们是很简单的，但是我们有了自己的光刻机那就会扭转局势。

22nm的紫外线工艺已经是国内的极限了，这个跟荷兰的5nm还相差很多，但是这并不是我们气馁的理由，中芯国际虽然已经拿到了荷兰公司的7nm的光刻机，但是因为收到阻扰并没有完成交付，对于我国的5G技术形成了阻碍。

但是这次的光刻机重大突破，就会出现改观，上海微电子功不可没，现在的上海微电子和比亚迪已经有了完整的产业链，已经超过了日的中高端市场，ASML公司的技术并不是荷兰一家的，而是整个西方世界的技术整合，所以我们的对手其实是整个西方世界。

我觉得荷兰光刻之所以这么先进就是因为技术早走一步，中国是后来者，只要中国科枝工作者不懈努力，不久的将来光刻机技术及制造一定赶超荷兰，崇洋媚外者就不要无限放大前进道路上的困难，吓退前进中的中国科技，西方国家能够完成的，我相信我国就一定是可以的，只是时间问题。

好了今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！

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