在众多工业设计中,最难的可以说是制造手机芯片了。最近几年,因为芯片的问题,我国科技企业也频频遭遇“卡脖子”的问题,无数国人都为之担忧,不少国产厂商也开始加快布局芯片自主研发。
本月初消息,上海微电子技术再次获得突破,成功研发出22nm的光刻机。可以见得,我国当前在半导体领域正不断获得新突破,但从当前国际市场不断变化的形势来看,半导体国产替代之路仍然任重道远。
虽然说22纳米的光刻机与目前最先进的5纳米光刻机相比还相差甚远,甚至可以说是不值得一提,但是这对于我国来说也是一个技术性的突破,至少他让我国的芯片国产化更近了一步。网友也表示:华为最大靠山来了?
不管多难,我国企业都不能放弃,光刻机的自主研发是一个漫长的过程,日后还需要不断努力,争取将核心技术和供应链全都掌握在自己手中,期待日后国产光刻机能够在国际市场中取得更好的成绩,让国产芯片在全球市场立足。
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