国产光刻机突破关键技术，给了华为喜讯，给美科技强力一击！

近日，上海微电子又传来令人振奋的消息，我国自主研发的光刻机从90nm提升到28nm，并实现了全部国产化，这将带来哪些影响？

据了解，这台国产光刻机给我们解决了不少问题。在它的套客精度上面也是精湛不少，在多次的曝光情况下可以实现11nm制程工艺的芯片方面的生产，给了我们不少惊喜。如果采用其它套刻精度更为优进的曝光的话，很可能突破更加高端的芯片生产。

随着科技的发展，我国在5G科技上边表现的领先优势，使得我们对与高精度以及高运算速度的芯片需求很大，带动了整个硬件变更，这个特朗普也非常明白，美国也不想在5G的竞争中失去多年以来的全球主导地位，美国在5G上落后于华为是不争的事实，在5G上与华为竞争已经不可能。

期待国产科技能够一次次取得成功。或许国产光刻机可以走向世界，给国产科技走向世界带来更多不一样的成就。相信在未来不久，我们会以说“国光”而一直骄傲下去。这也给了华为喜讯！