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中国突破光刻胶关键技术,中芯国际为主要客户,解决了燃眉之急!

​众所周知,在华为选择了中芯国际这一合作伙伴之后,美国又以光刻机相威胁,如今我国上海微电子已然具备了国产光刻机的生产技术,解决了当前的燃眉之急。

而如今我国已经研发出国产光刻机与光刻胶,这更加看到我国对于芯片产业发展的信心也是必然发展之路。其实光刻胶属于芯片的关键材料,其重要作用是涂到晶圆上并构成一定的线路,然后经过UV光照,被光刻胶挡住的地方就会被蚀刻掉,这是正性光刻胶。

并且如今这一光刻胶已经进入了中期试验阶段,而中芯国际已经在与该实验室的有关管理人员进行接洽,计划与其达成长久的合作,成为其重要客户之一。

而且目前主流的光刻胶都是从日本乃至欧美进口,其关键技术也被《瓦森纳协议》深深的限制住,该技术都限制向中国出口,就如光刻机一样。

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20200626A0KXOC00?refer=cp_1026
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