进入21世纪以来,由于传统硅基芯片受摩尔定律的限制,发展速度日益缓慢,人们一直试图寻找能够替代硅的芯片材料,而碳纳米晶体管就是最具研究价值的方向。
而熟知半导体工艺的朋友,皆知集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上蚀刻出来的,由此光刻工艺就决定了半导体线路的线宽,同时也决定了芯片的性能和功耗。那么决定光刻工艺的光刻机就成了制造芯片最关键设备。
2020年,北京大学张志勇教授和彭练矛教授课题组发展全新的提纯和自组装方法,并使用该方法制备出高密度、高纯半导体阵列的碳纳米管材料。更为让人欣喜的是,经过初步的测验,这款碳基芯片与硅基芯片相比,在具体性能上还具有更多的优越性,其适用领域也更为广泛。
然而这个世界上能生产EUV光刻机只有荷兰阿斯麦独此一家。阿斯麦公司主攻研发光刻机,一直在光刻机领域处于领先地位。那么现在有网友说了北大碳基芯片VS 荷兰EUV光刻机,孰能最终笑傲江湖?敬请期待!
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