中国启动替代计划！国人沸腾，芯片关键材料实现量产！

高精度芯片制造的关键设备——光刻机，是半导体行业的重中之重，而光刻胶作为光刻机制造芯片时的关键材料，其地位更是举足轻重的。光刻胶能否国产化生产，关系到中国近万亿半导体市场的正常运转。

因为在此之前全国就只有美国，日本和韩国这三的国家掌握了这一项技术，想要在这方面有着一些突破性的进展发展就只能依靠自己，为了不受制于其他国家我国也想要在这方面有着相应实力。

而近几年来我国也加大了在光刻胶领域的投资力度，承接光刻胶研发任务的企业也在各地开花。苏州瑞红公司首先将第二代光刻胶实现量产，标志着02专项国家重点科技项目的突破。南大光电研发第四代光刻机的ArF光刻胶，是我国在芯片制造材料的重大突破，打破了此前我国高质量光刻胶缺乏的局面。

这样的一种研制能力是非常让其他国家羡慕的，毕竟在一个垄断的环境之下还要能够研制出这一项技术是非常不容易的，而在这当中，科研人员需要攻克的一些难点就越发的多，除开这些之外，在相关领域的发展是需要努力的，之后的成就也会越来越多。