太突然了！中科院再此立大功，2纳米芯片关键技术突破

因为华为事件我们都知道我们国家缺乏光刻机这一事实。这一设备是芯片制造最重要的设备，我国半导体行业也因此发展缓慢，但我们国家终于在美国开展打压政策后，深刻意识到了半导体领域独立自主的必要性，所以国内各大企业也纷纷致力于这一领域的研发。

而根据中芯国际对外公开的财报显示，国内首条14纳米芯片生产线在上海已投入使用，中国14纳米级芯片已经突破量产，而能耗下降20% 、性能提高10%的12纳米级芯片订单已经开始导入，各种现象表示中芯国际已经开始了下一代芯片半导体的研发进程。

与此同时，我国2纳米芯片的关键技术得到了突破，这对于我国半导体领域来说是一大进步，更为自己在未来2纳米芯片占领市场奠定了基础，可以说中科院再立大功。

2纳米芯片的制造生产以及将于2024年投入，而此次2纳米关键技术的攻克破冰，称得上是意义重大。如果ASML公司的EUV光刻机能成功交付，相信中国的芯片研发制造定能走得更远。