喜事连连！中国开启“替代”方案，芯片制造关键材料实现突破

在半导体和微电子等高端科技产业中，有一种特殊的气体起着至关重要的作用。这种气体的纯度能否达到最大值取决于电子产品的性能和后续生产线的正常运行。这种特殊气体有一个通用名称电子特殊气体。如何实现这类气体的国产化生产对中国半导体产业的发展至关重要。

这就意味着，我国在半导体研发过程中又增进了一步，对国内的芯片发展会带来更多的作用。众所周知，我国在半导体领域始终存在瓶颈，因此会受到其他国家的限制，也就有了之前的“华为事件”，而这次我国得到突破之后，便可以在这一领域拥有更多的自主性。

而近年来，中国也加大了对光刻胶，领域的投资，在光刻胶承担研发任务的企业遍地开花。苏州瑞红公司首次实现了第二代光刻胶，的批量生产，标志着02国家重点科技专项的突破。

而高精度芯片制造的关键设备——光刻机，是半导体行业的重中之重，而光刻胶作为光刻机制造芯片时的关键材料，其地位更是举足轻重的。光刻胶能否国产化生产，关系到中国近万亿半导体市场的正常运转。