掏2641亿元“压制”！中国光刻机大力崛起，美巨头慌了？

一直以来，中国的半导体领域都很依赖国外的设备以及技术。而在这种情况下，我们就迎来了多次被动的局面，只能“任人宰割”，尤其是芯片上。现如今，因为缺失高端光刻机的原因，我们国家的芯片技术实力一直没有很大的提升，导致华为都不得不卡在这个芯片难的境遇。

而近期，好消息终于传来了，本月，上海微电子设备有限公司正式宣布，将于2021年至2022年交付国内首台28nm浸没式光刻机，而这也是中国在半导体领域取得的一个重大突破。

而这个消息对于我们来说无疑是振奋人心。诚然，28nm的确不是最好的，但能够从之前的90nm光刻机瞬间突破到28nm，这无疑是很大的一种进步。而且按照这样的速度发展下去，我们未来在国内的芯片领域中，将不会再依赖他国的技术以及设备。

而特别注意的是，在我国于半导体设备行业获得重大进展后，美国的表现看起来十分过激，居然在不上两月的時间内，依次公布要拿出370亿美金，折合RMB2614亿来帮扶美国芯片公司。