我国激光式光刻加工技术实验突破5纳米超高加工精度

近日中科院发文证实，中国科学院苏州纳米所突破新型5nm超高精度激光式光刻加工技术。

我国突破5nm激光光刻技术

此项技术由苏州纳米所开发，是采用最新型三层堆叠膜技术加工，精度直达5nm相关科研团队还利用超分辨率激光直写工艺实现了纳米级狭缝电极阵列结构的规模化量产。

激光光刻技术可生产高集成度电路板

解决了高效率和超高精度之间的平衡，开发的技术可用于芯片、光子芯片、高精度集成电路板、微机电路系统等众多高精度领域，此项技术的成功开发直接追平发达国家相关领域的加工水平。