厉害！中科院5nm光刻技术突破，国产VCSEL光芯片打破欧美垄断

‍技术领域的发展能在更大程度上提升着发展实力，这样的一些发展也让大家都意识到了，要想有更多的话语权，在技术领域也是绝对不能退让的。

美国方面的禁令让我国芯片发展事业受到了比较多的阻碍，同时也让大家意识到了想要有一些好的发展必须依靠自身，所以国内也掀起了芯片制造的热潮。

而事实证明虽然，虽然我们在高精尖技术上是相对比较缓慢，但是并不意味着我们不可以突破，现在在芯片事业上的一些成就还是比较亮眼的。

上海的微电子技术公司在光刻机上就有了突破，他们开发出了22纳米的光刻机，这样的一些技术制造能够在更大程度上提升我国的芯片研制技术发展，并且这一光刻机的研制也成功地打破了西方国家在这一技术上的垄断。

为了有更好的一些发展，我们也进行了更多次的研制22纳米光刻机，虽然说是我国的突破，但是放在西方国家而言，是他们已经拥有了的东西，所以他们也并不害怕，我们想要有更好的发展，就必须在更高级别的一些技术上有所突破，才能够让他们意识到中国已经强大起来的。

现在的主流芯片生产模式就是光刻技术和极紫光刻技术，而单纯的光刻技术想要突破的话，其实是更为困难的，我们就选择了第二条路，现在微电子技术公司有了这样的突破，也让中科院有更多的一些发展方向。

张子旸团队的5nm工艺则是在无掩模光刻技术上的一项研究，这样的一些突破能够有更好的精确度掌握，并且可以达到5纳米芯片的要求，这已经算是突破瓶颈了，现在已经有了这一技术，下一步就应该进入到一些工程化的阶段。

工程化的研发也就意味着我们可以实现突破量产，国产VCSEL光芯片打破能一直以来我美国这样的一些技术垄断，现在能够有这样的成就，也让华为有了更多的一些发展机会。

虽然说华为受打压，但是在国内市场团结是比较明显的，现在在芯片技术方面我们也有了这些技术突破，之后的发展也会更好。

好了，今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！

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