中科院再次立功！5nm光刻技术取得重大进展，方式与ASML不同

众所周知，芯片的存在，对于一个科技企业来说，是至关重要的，不管是智能手机产品，还是5G通信设备等，都是离不开芯片的，然而我国一直以来都非常依赖于外国进口芯片，也就是说，在意识到芯片重要性之前，我国并没有很强的自主芯片研发技术。

但是中科院苏州研究所传来好消息：已成功研发新型5nm高精度的激光光刻技术，并且是独立于ASML公司之外的一种新型技术路线，这意味着我们终于有望在5nm光刻机上打破西方垄断。

而且这是一条和ASML公司完全不同的新型技术线路，5纳米高精度激光光刻机的研发，是利用三层叠堆薄膜结构，再通过双激光束交叠实现的。

而其实自研光刻机可能比我们想象得还艰难，因为西方在这一领域设置了太多的专利壁障，有些技术尽管我们知道了，但因为是西方具备专利权的所以就不能用。而荷兰ASML的光刻机是极西方科技之大成，涉及的专利技术多如牛毛，所以中科院绕开ASML的技术壁障，实在是一个了不起的壮举！