中国芯“破冰”，193nm光刻胶技术传来好消息，打破美国、日本垄断！

自从华为一事之后，不少中国人都开始意识到芯片国产化的重要性的，但是无奈的是，我国芯片行业的发展起步晚，而且由于跟西方先进国家之间存在着很大的技术差距，所以想要在短时间之内追上最先进的 技术并不是一件容易的事情。

不过最近国内的芯片制造技术再次“破冰”——南大光电在193nm（nm是纳米，长度单位，1厘米等于1百万纳米）光刻胶技术取得突破。有人可能会说了，不过是个193nm有什么可高兴的，能帮到人家华为吗？你别说，真的能。

在现在的光刻胶生产市场里，ArF光源的光刻胶占据了市场总额的42%，而值得一提的是，因为技术垄断，所以之前的ArF光源的光刻胶都是由美国企业或者日本企业提供的，两个国家一直都是在这个领域里占据着垄断的地位。谁能够想到中国现在能够一举突破技术限制，打破这个垄断地位。

现在是万事俱备，只欠东风了，国内目前的光刻胶发展，跟国外的差距缩短到了18年左右，但是在整体上应该只有10年的差距，目前只要统筹好各方，国内是完全可以自主生产出7nm芯片的。