自从华为一事之后,不少中国人都开始意识到芯片国产化的重要性的,但是无奈的是,我国芯片行业的发展起步晚,而且由于跟西方先进国家之间存在着很大的技术差距,所以想要在短时间之内追上最先进的 技术并不是一件容易的事情。
不过最近国内的芯片制造技术再次“破冰”——南大光电在193nm(nm是纳米,长度单位,1厘米等于1百万纳米)光刻胶技术取得突破。有人可能会说了,不过是个193nm有什么可高兴的,能帮到人家华为吗?你别说,真的能。
在现在的光刻胶生产市场里,ArF光源的光刻胶占据了市场总额的42%,而值得一提的是,因为技术垄断,所以之前的ArF光源的光刻胶都是由美国企业或者日本企业提供的,两个国家一直都是在这个领域里占据着垄断的地位。谁能够想到中国现在能够一举突破技术限制,打破这个垄断地位。
现在是万事俱备,只欠东风了,国内目前的光刻胶发展,跟国外的差距缩短到了18年左右,但是在整体上应该只有10年的差距,目前只要统筹好各方,国内是完全可以自主生产出7nm芯片的。
领取专属 10元无门槛券
私享最新 技术干货