最近上海微电有点在风口浪尖的意思。最近上海微电被华为挖走了不少研究人员,引起了广泛关注。
除此之外还有个问题,上海微电研究光刻机这么多年,为什么还在90nm?要知道世界上大多数光刻机厂商也在10nm,近日asml也宣布已经突破了7nm和5nm。
上海微电作为国内光刻机老大哥,早在2002年就已经开始了研发工作,但是到现在还是受限于关键技术,没能突破90nm大关。主要原因是是浸润式光刻技术还没有突破,一旦迈过这道坎儿,10nm就不是难事了。
前几日上海微电的老总公开发了牢骚,也有不少自媒体表示对华为失望,但实际这件事上,还是看出上海微电还是对科研人才有些不够大方,一方面也是受限于资源,不然不会就这样被华为挖走核心科研人员。说起来可能是对上海微电的一次打击,但实际上市场竞争对科技竞争还是有好处。结合前几日中科院研究员集体辞职的事件,如何通过待遇激励研究人员以促进研发是值得我们考虑的,特别是在诸如光刻机技术这种我国已经起步较晚的技术上。
市场竞争技能保证人才理所应当获得报酬,也能优胜劣汰,更高效地创造更多价值。现在开始弥补人才短板还不晚,只要还继续着耐心刻苦的钻研,接下来我国光刻机技术突破10nm,7nm乃至3nm的大关都指日可待!
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