厉害！中国国产芯片有望突破7nm工艺，或许使用EUV光刻机！

‍众所周知半导体芯片技术是当前中国技术发展的焦点所在，也是无数中国居民所密切关注的领域，从历史发展来看，芯片走进大众视野已经有很久一段时间，我们日常生活中所使用的手机等电子智能设备功能的发挥，都要依赖于芯片的控制。

如此重要的一大技术，为何中国现如今才给予关注呢？这是因为多年以来中国企业多从美国等发达国家进口芯片，久而久之形成了依赖心理，如今美国已经翻脸不愿意为我国供给芯片，中国被迫走向了国有芯片的发展之路。

如今看来，在这条道路上，中国技术走的相对坎坷，如今中国国产芯片有望突破7纳米工艺，或许不再使用EUV光刻机，能够制造出最强“中国芯”，这一进展给了中国企业以及中国人民以莫大的支持。

纵观中国国产芯片的发展，美国的一再干预是阻碍中国技术进步的重要因素，要知道芯片的生产出了需要最为关键的研发技术之外，其生产的复杂流程也是至关重要的，尤其是在光刻这一环节，直接决定芯片的性能高低如何。

然而如今在国际上，拥有高端光刻机生产技术的只有荷兰的ASML企业，中国以中芯国际为代表的芯片生产企业，想要拥有大规模以及先进的芯片生产技术，首要解决的就是光刻机的问题。

之前中芯国际从ASML订购了多款EUV光刻机，将其视为中芯国际推进7纳米芯片供给的重要法宝。然而在美国的一再干预之下，如今看来想要拿到这些光刻机并不容易。

当然我国企业也尝试自主研发光刻机，但是还需要较长时间的技术成长，中国专家也在另辟蹊径，寻求不用光刻机的芯片生产工艺，如今已经找到了多个方向。

比如中芯国际此前推出的N+1工艺，能够有效避开光刻机这一短板，此外我国中科院专家还提出了碳基芯片的生产方向，其技术性能甚至要超出于当前流行的硅基芯片。

好了，今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！

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