中国“第一台”超分辨光刻装备诞生，可制造10纳米级别技术芯片

国内半导体领域依旧处于劣势，西方的半导体技术研发可是先进中国几十年，尽管中国依旧在不断深入钻研发展，对于某些技术性难题依旧停顿状态，在某些技术方面还是需要完善的，而光刻机精准度就是一个超高的难题。

光刻机在我国所面临不仅仅是一项技术难题，更关乎到中国的发展地位，光刻机可以说是世界上最复杂的机器，单单光刻机的机密零件的组合就需要成千上万个，精密程度可谓是无死角，而且光刻机的内部结构运动精度误差小之又小。

放眼全球，在光刻机上只有荷兰ASML公司才能掌握光刻机的技术，不说研发光刻机，即便是安装一台光刻机都需要有超硬的技术。

要想打破芯片的垄断甚至是量产国产芯片都离不开光刻机，想要实现国产芯片的量产，就需要突破自我。

近几年来，国内在光刻机上也算是小有成就，经过了十几二十年的发展，国内在半导体上也是人才济济，对于华卓精科、上海微电等知名企业在该领域上也有所建树。

目前，“中国第一台超分辨光刻装备诞生”，国内成功研发了第一台分辨力最高的紫外超分辨装备，其光刻分辨力再次得到突破达到22纳米，而且根据多种相关技术，可制造出10纳米级别技术芯片。

中国对于技术上的封锁依旧还有很多没有突破，尤其是在半导体领域的，不过，中国人天生就能吃苦耐劳，就连现在国内也有了自己的“国产芯片”，再也不用处在他人屋檐下苟活。

虽说国内国内技术不成熟的情况下，国芯片技术想要达到世界一流水平，短期内难以实现，一旦光刻机能实现研发，那么就算是被封锁的情况下，我们同样也能进行制造。

对光刻机的研发和精准度上，没有十几年的时间也许都研制不出，相信中国终有一天在半导体领域能站在国际的巅峰。