中科院删掉5nm新闻，落后的国产光刻机，何时能追上国际？

华为受美国制裁，将面临芯片断供一事，暴露了我国芯片制造行业的落后，各界对于国产芯片的关注度也骤然提升。前段时间，中科院一篇研究员研发出新型5nm超高精度激光光刻加工方法的新闻更是引发了热议，一时之间，国产芯片有望超车、替代光刻机的夸大言论四起。

不久后，中科院便将5nm新闻删除，原因不详。上述技术虽然令人瞩目，但还停留在实验室阶段，想要替代光刻机还有很长的路要走。这不禁让人发问，落后的国产光刻机，何时能追上国际？其实，早在20世纪70年代时，我国便开始光刻机的研制，并确定了光刻机设备与工艺的重要性。

不过我国基础产业十分薄弱，在1977年，首台GK-3型接触式光刻机才问世，与彼时领先的1:1投影光刻机与分步投影光刻机有着不小的差距。1985年，中国首台分步投影式光刻机问世，缩小了与美国之前的差距。但ASML的迅速崛起却又骤然拉大了国产光刻机与国际之前的差距。

ASML更是实现了对尼康、佳能这两大光刻机巨头的赶超。面对如此大的距离、强大的技术壁垒，我国光刻机想要实现赶超难上加难。彼时，国家政策扶植力度减小、“造不如买，买不如租”思想大肆兴起，加之1996年《瓦森纳协定》对我国实行了技术封锁，因此，长期以来我国光刻机发展几乎陷入停滞。

好在，我国并没有放弃光刻机的研制。身为中国光刻机第一巨头的上海微电子，在百般困难之下，于2007年推出首台90nm工艺投影光刻机。

但是阻碍也随之而来，西方对上海微电子进行禁运，这台大部分关键元器件来自国外的光刻机，也因此无法量产。

而且，我国对于光刻机的研究力量分散，难以将力量集结起来。并且，我国薄弱的基础研发与产业积累都使得光刻机的研发困难重重。照目前进度来看，国产光刻机与ASML之前有着至少几十年的巨大差距。而且，我国被卡脖子的不止光刻机，在芯片材料、制造等诸多领域都有明显落后。

而且，资本炒作现象使得我国芯片行业出现了虚假繁荣。不过，随着国家对集成电路行业的关注，以及众多脚踏实地企业成果的亮相，国产芯并不是没有突围的希望。