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上海微电子光刻机突破22nm,还有很大差距,为何圈内如此兴奋?

上海微电子光刻机突破22nm,还有很大差距,为何圈内如此兴奋?

近段时间,由于华为等高科技企业不断遭到美国的封锁打压,也让我们对中国现在在芯片领域的水平有了一个比较清楚的认识,由于华为的飞速发展,在5G领域和芯片设计领域的突飞猛进,让美国的企业感到了巨大的压力,所以就对华为施加了禁令限制,也是这个原因5G和芯片发展成了我们茶余饭后的热门话题,在外部环境极限施压的情况下,我国的上海微电子在夜以继日的努力之下攻克了22nm光刻机技术,这个技术的突破一时间轰动了国内的科技圈,有很多人不理解,为什么我们只是刚突破22nm就如此兴奋呢?

有一部分网友提出了,现在最先进的光刻技术不是已经到了5nm甚至3nm了吗?那么为什么我们刚突破22nm的技术就让技术人员如此的兴奋呢?其实这个原因很简单,就比如你在一个特别漆黑的夜晚,突然间闪出一线光芒,你会不会欣喜若狂呢?会不会特别的兴奋?我们要知道的事实是在上海微电子取得22nm技术突破之前,我国最先进的光刻技术是90nm,现在我们直接从90nm跨越到22nm,这是一次巨大的飞跃,这表明我们已经掌握了一些核心技术,我们接下来的芯片制造道路将会变得更加顺畅,将会更快的研发出更高精度的光刻机。

大家在惊讶我国在发展之中取得如此成就的同时,心中也有一个疑问,那个就是 我们何时能够摆脱外国的束缚,突破他们的技术封锁,毕竟我们与他们是有很大的差距的,我们错过了第一次工业革命和第二次之后,让我们清楚地认识到了只有技术先进才会屹立于世界,所以在这次的竞争中,我们对自己充满了信心,同时我们也会牢牢地抓住机会。当然了只有信心是不行的,首先我们要面对现实,就是我们与外国在集成电路与半导体领域确实存在差距,我们要在实践工作之中不断地去完善弥补,要不断的学习进步,不能被一些纸老虎给吓到,我们会越战越勇,我国芯片领域一定会在不久的将来崛起。

目前的现状是我们还有很大的上升空间,而国外的3nm技术几乎达到了物理极限值,提升的空间和难度是巨大的,在这样的大背景之下,我们可以奋起直追,并且现在芯片也已经得到了我国的高度重视,现在我们还从不同方向寻求突破,相信用不了多久,我国就会让世界听到我们的好消息。到时候我们也将不会再受到一些国家的限制束缚!

只要不放弃,踏实的研发,相信我们可以的!

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20200914A06ZMZ00?refer=cp_1026
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