上海微电子光刻机突破22nm，还有很大差距，为何圈内如此兴奋？

上海微电子光刻机突破22nm，还有很大差距，为何圈内如此兴奋？

近段时间，由于华为等高科技企业不断遭到美国的封锁打压，也让我们对中国现在在芯片领域的水平有了一个比较清楚的认识，由于华为的飞速发展，在5G领域和芯片设计领域的突飞猛进，让美国的企业感到了巨大的压力，所以就对华为施加了禁令限制，也是这个原因5G和芯片发展成了我们茶余饭后的热门话题，在外部环境极限施压的情况下，我国的上海微电子在夜以继日的努力之下攻克了22nm光刻机技术，这个技术的突破一时间轰动了国内的科技圈，有很多人不理解，为什么我们只是刚突破22nm就如此兴奋呢？

有一部分网友提出了，现在最先进的光刻技术不是已经到了5nm甚至3nm了吗？那么为什么我们刚突破22nm的技术就让技术人员如此的兴奋呢？其实这个原因很简单，就比如你在一个特别漆黑的夜晚，突然间闪出一线光芒，你会不会欣喜若狂呢？会不会特别的兴奋？我们要知道的事实是在上海微电子取得22nm技术突破之前，我国最先进的光刻技术是90nm，现在我们直接从90nm跨越到22nm，这是一次巨大的飞跃，这表明我们已经掌握了一些核心技术，我们接下来的芯片制造道路将会变得更加顺畅，将会更快的研发出更高精度的光刻机。

大家在惊讶我国在发展之中取得如此成就的同时，心中也有一个疑问，那个就是 我们何时能够摆脱外国的束缚，突破他们的技术封锁，毕竟我们与他们是有很大的差距的，我们错过了第一次工业革命和第二次之后，让我们清楚地认识到了只有技术先进才会屹立于世界，所以在这次的竞争中，我们对自己充满了信心，同时我们也会牢牢地抓住机会。当然了只有信心是不行的，首先我们要面对现实，就是我们与外国在集成电路与半导体领域确实存在差距，我们要在实践工作之中不断地去完善弥补，要不断的学习进步，不能被一些纸老虎给吓到，我们会越战越勇，我国芯片领域一定会在不久的将来崛起。

目前的现状是我们还有很大的上升空间，而国外的3nm技术几乎达到了物理极限值，提升的空间和难度是巨大的，在这样的大背景之下，我们可以奋起直追，并且现在芯片也已经得到了我国的高度重视，现在我们还从不同方向寻求突破，相信用不了多久，我国就会让世界听到我们的好消息。到时候我们也将不会再受到一些国家的限制束缚！

只要不放弃，踏实的研发，相信我们可以的！

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