好消息！国产22nm光刻机实现实际突破，中国芯片正在崛起

导语：很多人都知道，中国半导体技术和中国芯片工艺制程上的起步会比海外发达国家要来得更晚很多。这也就意味着中国芯片在制造上面存在的巨大缺口还是主要依赖于国外‘进口’。虽然，我们都知道国内已经有不少优秀的高新技术领域企业已经在芯片领域上得到突破，但是对于制造芯片必须要用到的光刻机设备技术上还是存在非常大的差距。

小语想跟大家侃一侃关于“好消息！国产22nm光刻机实现实际突破，中国芯片正在崛起”的那些事儿。

想要制造出高端先进的芯片，自然少不了技术先进和制程高端的光刻机设备。然而，光刻机技术的突破，在难度上丝毫不亚于当初的“原子弹”研发程度，所以，这么多年来我们国产光刻机技术在没有任何技术经验可以借鉴的条件下，光刻机技术的水平一直停留在90nm工艺制程上。

就在近日，国内半导体行业在光刻机技术上终于迎来了一个好消息，那就是国产22nm光刻机终于实现了实际性的突破，这意味着国产光刻机技术只停留在90nm的时代已经过去了。这还真是一件值得大家振奋的事情。

“荷兰ASML生产的EUV光刻机几乎垄断全球，中国芯片的路在何方？”

我们都知道，目前全球最先进的光刻机设备已经到了5nm工艺制程的水平，而这样高水准的光刻机设备就来自于荷兰ASML公司生产的EUV光刻机设备。可以毫不客气地说，荷兰ASML设计并且研发的EUV光刻机设备几乎垄断了全球高端先进光刻机设备的半壁江山。

中国芯片为何一直没能实现100%国产化？主要还是在于国内芯片制造在光刻机设备上的技术太过于落后，连中端光刻机的技术水准都没办法达到，这也就意味着想要实现高端芯片实现100%国产化，首先在国产光刻机上面的技术要先得到突破。否则，中国芯很难实现100%国产化。

“国产光刻机成功研制出22nm工艺水准，缩短差距指日可待”

自从宣布了22nm工艺制程的国产光刻机技术研制成功之后，中国芯片再一次迎来了春天。为啥？虽然我们在距离荷兰ASML公司设计研发的EUV 5nm工艺光刻机设备来说，差距并不是一点点大，但是最起码我们从90nm工艺直接跨越到22nm工艺，那是一个质的飞跃。

第一次光刻机技术上面质的飞跃就已经能够有这样的成绩，在小语看来已经非常值得肯定的了。这意味着我们在中国芯片实现100%国产化的道路上强势崛起，在跟海外光刻机设备和芯片制造的精密程度的差距上，又缩短了很大一步。

“国产光刻机一度受到荷兰ASML公司的轻视”

要说荷兰ASML公司，在光刻机设备上面的技术确实让全球的半导体行业光刻机企业望尘莫及。能不能使用到荷兰ASML公司研发的光刻机设备，还真的就只能看别人的脸色。这不，早在很久之前，我国就已经跟荷兰ASML公司下了EUV光刻机设备的订单，但是这么多年过去了，至今没能收到货。

这样的轻视或许是因为荷兰人本身对于“中国制造”的防备心很重，害怕自己的高端先进技术被“中国”快速‘仿制’，从而失去了自己在光刻机设备领域上面的绝对优势。又或者，因为荷兰ASML公司如今大部分的股权都掌握在美国人的手里。而美国人一直不愿意看到我国在半导体科技领域能够崛起和发展，又怎么会愿意让荷兰ASML公司交付EUV光刻机设备给我国呢？

“光刻机顺利突破，中国芯开始‘突围’”

说实话，中国科研队伍还是非常给力的，在没有先进光刻机技术设备的借鉴经验的前提下，甚至还要面临着国外在这一方面发达的企业对我国科研团队消息封锁渠道的困难中，我们还是顺利突破了22nm工艺制程的光刻机技术，这也就意味着我们曾经一直停滞在90nm国产光刻机的时代已经结束。

中国芯开始‘突围’。想要实现中国芯片100%国产化，首先要解决的就是国产光刻机的问题。这会儿22nm光刻机的成功研发，很大程度上就让中国芯在中端芯片制造上可以实现100%国产化。那么，距离我们能够自主实现100%国产高端芯片的日子，还会远吗？

对此，大家对国产22nm光刻机实现实际突破，中国芯片正在崛起有什么不同的看法？欢迎下方留言区评论。