失之千里差之毫厘，突破光刻机技术有多难？“中国芯”已经强势崛起

今年最让国人为之牵动的就是“中国芯”的问题，由于美国对于华为不友好的新闻占据了各大头条，所以也让众多老百姓都关注到了芯片的这一问题，就在大家对芯片的问题感到担心之际，中国的芯片行业终于传来了好消息！

我国的国产光刻机迎来崭新突破

正是由于华为的相关新闻让大家都知道了中国在芯片上的短板，但是大家所不知道的是，想要真正突破芯片的封锁，最重要的是光刻机技术，而高端的光刻机被称为是世界上最精密的仪器之一。

目前在光刻机技术上最为领先的是荷兰的ASML公司，甚至可以说ASML公司相当于垄断了这一技术。在前不久，荷兰ASML公司的总裁曾说，中国永远也制造不出最高端的光刻机！

光刻机是芯片制造中必不可少的核心设备，但是我国目前在光刻机技术上比较依赖于外国进口。因此，我国想要在芯片技术上有所突破，首先就要突破光刻机技术。

失之千里差之毫厘，突破光刻机有多难？

继中国的北斗定位导航系统中所用的三号芯片早已成功突破22nm的限制后，在中国的上海微电子技术也传来了捷报，中国已突破了22nm规格的光刻机，这一消息让整个高新科技圈都振奋了起来！

说到这里，比较了解科技领域的朋友可能会说，这有什么值得庆贺的？荷兰ASML公司的光刻机技术是5nm的，我国的22nm与国际顶尖的5nm的还有很大的差距。

其实光刻机技术是相当难突破的，不然也不会被称之为是“现代光学工业之花”，在22nm之前，我国的光刻机技术还停留在90nm上。千万别小看这22nm的突破，目前很多国家都还没有技术攻克50nm的大关，如今中国的成就也相当于是完成了绝大多数国家都没有完成的目标了。

“中国芯”将砥砺前行

为了突破我国在半导体芯片领域的封锁，今年的上半年，国家就已经为这一领域投入了600亿的资金，所以国家对于“中国芯”也是十分重视的。

其实每一项科技研究都不是一朝一夕能够达成的，虽然我国在过去的时间里起步较晚，但是在美国的重重打压之下，我国也取得了阶段性的胜利，虽然与世界最顶尖的光刻机还有一段距离，但是我国也在积极的缩短这个差距，相信我国的“中国芯”也已经离我们越来越近！