功夫不负有心人！国产光刻机突破22纳米，和荷兰光科技说拜拜

功夫不负有心人，在祖国不懈的努力下，国产芯片终于迎来了自己的机遇。最近两年，开始有越来越多的企业加入到了“造芯”行列，让国产芯片投资异常火热。此外人才、资金的不断流入，再加上国家政策的大力扶持，芯片专业也被列为了一级学科，可以说在种种利好因素下，国产芯片产业的发展无疑也是迎来了最好时期。

有机构统计，在2020年上半年，国产芯片产业链投资额已经高达600亿同比增长215%，重点是投资资金依旧在源源不断的流入到国产芯片企业中，预计今年半导体领域的投资会是去年的3倍。

值得自豪的是，就在前不久，中国北斗三号芯片成功突破了22纳米的限制，而上海微电子技术也再次获得突破，成功研发出了22nm的光刻机。从技术角度来讲，虽然我国获得的突破和外国技术相比还有一定差距，但从整体进程来看，我国半导体行业和外国的差距正在慢慢减小。

众所周知，在信息化时代，芯片就好比是一家科技企业的灵魂，没有芯片就没有竞争力。而制造芯片的光刻机，更是被称为“人类工业皇冠上的明珠”，如果造不出光刻机，就摆脱不了芯片被“卡脖子”的局面。

纵观全球，有能力制造高端光刻机的企业，只有荷兰ASML一家。也正因为掌握着全球独一无二的技术，使得ASML公司的市场占有率一度达到了80%，如今芯片厂商所用的高端光刻机99%都是由荷兰的ASML公司提供。

而荷兰ASML光刻机之所以如此受欢迎，是因为它生产的芯片，可以达到5nm制作工艺级别。而我国此前制造的光刻机，技术水平还停留在90nm左右。也正因为此，这次国产22纳米光刻机的出现，才让很多人感到兴奋。随着我国在半导体领域不断获得突破，相信未来一定会造出精度更高的“中国芯”，早日对外国芯片以及荷兰ASML光刻机说拜拜。