其实早在1978年，我国就已开发5微米制程半自动光刻机

其实早在1978年，我国就已开发5微米制程半自动光刻机，

但最后由于投入力度等原因，制程从微米深入纳米后，我国企业就无法跟上世界顶尖企业的发展步伐，这才导致了如今光刻机领域的严重落后。

光刻机的水平直接决定芯片制造工艺水平，尤其是经历了今年的“芯片断供危机”之后，华为对光刻机的重要性肯定会更加清晰。因此华为在今年7月就被曝出正不断“招兵买马”，并着重发力自建芯片晶圆厂。另外，6月份华为就对外宣布其位于剑桥园区的第一期规划已经获批，主要用于光电子的研发与制造；而如果综合2016年华为申请光刻机相关的技术专利，这也引发市场猜测——华为早已意识到问题的关键，且已提前布局，并在相关领域投资了80亿美元（约542亿元人民币）。

毫无疑问，华为对光刻机的的投入以及华为自身科研水平有目共睹，但是光刻机的制造不是一个企业的问题，而是一个产业链的问题。荷兰ASML公司生产一台价值上亿的EUV光刻机就需要进口许多国家的先进零部件，同样国产光刻机也离不开这些零件，因此光刻机行业的发展需要是全方位的。华为郭平曾表示希望华为能够带动中国芯片行业上下游的生态建设，这无疑是一个伟大的企业应有的担当。希望国产光刻机企业能够聚起合力、拧成一股绳，努力实现国产光刻的自立自强！