给华为吃下“定心丸”！中科院果然没让我们失望，光刻机技术再获突破

前言：

中国的半导体领域发展目前成为了全世界的一个焦点，因为我们一旦失败的话将会有很多人来看我们的笑话，但是我们如果一旦成功的话很多人要为他们的行为付出代价，在这其中美国对于我们的态度也是非常的坚决，那就是坚决的去抵制中国半导体的发展！在这一方面中国确实有着很大的落后，尤其是在光刻机方便我们也是有着很大的欠缺，但事实证明中国人想做的事情就没有完不成的，不然的话我们也没有必要被称之为是“基建狂魔”，不仅仅是在国家的建设方面更是在科技领域方面我们都是世界一流的！

一、激光光刻技术突破

如果说想要让光刻机得到突破的话其实凭借一些单独的企业很难达到，所以说现在很多人都把希望放在了中科院的身上，但是中科院最近一段时间也是不负众望的公布了一个好消息。那就是在今年的7月份其实就已经研发出来了新型5纳米超高精度激光光刻技术，只不过是这一项技术目前也是没有运用在光刻机方面，如果说一旦将这项技术升级运用的光刻机方面的话，那么将会对我们去突破5纳米芯片技术有着非常大的帮助！

二、量产芯片

但是如果想要去实现量产5nm芯片其实还是有些困难的，但是对于7nm以及说10nm都是非常简单的一件事情了，所以说在接下来的一段时间当中我们能否实现芯片的量产就看这项技术是否能够成熟。总得来看的话这项技术确实已经达到了一个突破，而且也证明了中国人想要去突破光刻机并非是不可能的事情。

结语：

中国在向全世界展现了什么叫做中国速度，中科院自从加入之后就为中国半导体领域注入了一股新的血液，相信这一次中国一定能够反败而胜！