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再次突破!我国光刻机再创奇迹,5纳米光刻机技术突破

文/环球珊珊观察

光刻机对于平常人来说也许是陌生的,然而说到芯片却是熟悉的,毕竟现代社会人们使用的电脑、智能手机、MP4等都使用到芯片,而光刻机就是生产芯片的机器,光刻机技术决定了芯片的性能高低。中国光刻机技术、航空发动机、轴承钢等一直都是中国被卡脖子的核心技术,为此中科院还成立了攻克小组,当然这个核心技术攻克小组的成立与华为总裁任正非也有一定关系。如今,中国光刻机技术突破,一定程度为华为缓解了危机。

顶尖光刻机制造难度极大,无论是对于中国科学家还是对于外国科学家来说,甚至有着“光刻机一个零件,足够一个科学家花十年制造”的话,并且美国还对中国进行了技术封锁,在两大压力下,中国另辟蹊径,近日,中科院发出好消息,苏州纳米所在超高精度光刻机技术上获得新突破。中科院经过努力研发出了一种不需要顶尖光刻机EUV就可以生产5纳米制程芯片的新型超高精度光刻激光技术,这一技术成为了超越荷兰ASML公司EUU光刻机技术的存在。

众所周知,此前荷兰ASML公司曾经说7纳米以下制程芯片必须需要EUV光刻机才能够制造出来,然而今天中科院使用的超高精度光刻激光技术已经打破这一定论,用实力向世界证明中国技术的强大。其次,中科院此次研究出的激光技术使用了双激光交叠技术,在经过多次探索中,拓展了直接激光采写的应用当年。

中国这次重大突破为我国一些公司发展提供了推力,比如华为,华为此前使用的芯片是安卓的,但是由于受到美国的钳制,华为一度陷入了危机,在巨大的压力之下,华为成功研制出了5G芯片“鸿蒙”,成功变被动为主动,实现逆转。相信在中科院的研究的加持下,华为也可以越走越远。

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20201011A028SA00?refer=cp_1026
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