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美国禁止出口5纳米光刻机技术,我国EUV光刻机无望

美国禁止出口5纳米光刻机技术,我国EUV光刻机无望。

近日,美国商业管制清单新增加了六项新内容:

1,混合增材制造/计算机数控工具;

2, 特定的计算光刻软件;

3,用于为5nm生产精加工晶圆的某些技术;

4, 有限的数字取证分析工具;

5, 用于监测电信服务通信的某些软件;

6, 亚轨道航天器。

7纳米以下芯片制造的EUV光刻机,包含美国技术。如此看来,我们只能自力更生了!2018年中芯国际向ASML定的EUV光刻机,石沉大海,只有波浪,没有回音。

前不久,ASML说可以直接从荷兰出口DUV光刻机给中国,无需任何出口许可。但是相关系统或配件需要从美国出口的话,仍然需要得到美国的许可。其中EUV光刻机,不在“免出口”范围。

这未免有这样的猜想:

ASML说:中国快要突破22纳米光刻机了,再不卖,到时就不值钱了。我也要生存!

美国说:不担心!我给你出主意,DUV光刻机随便卖。设备配件坏时,只能从我这里出口。到时再限制出口,你钱赚了,我也达到了目的。

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20201026A00BTV00?refer=cp_1026
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