美国禁止出口5纳米光刻机技术，我国EUV光刻机无望

美国禁止出口5纳米光刻机技术，我国EUV光刻机无望。

近日，美国商业管制清单新增加了六项新内容：

1，混合增材制造/计算机数控工具；

2， 特定的计算光刻软件；

3，用于为5nm生产精加工晶圆的某些技术；

4， 有限的数字取证分析工具；

5， 用于监测电信服务通信的某些软件；

6， 亚轨道航天器。

7纳米以下芯片制造的EUV光刻机，包含美国技术。如此看来，我们只能自力更生了！2018年中芯国际向ASML定的EUV光刻机，石沉大海，只有波浪，没有回音。

前不久，ASML说可以直接从荷兰出口DUV光刻机给中国，无需任何出口许可。但是相关系统或配件需要从美国出口的话，仍然需要得到美国的许可。其中EUV光刻机，不在“免出口”范围。

这未免有这样的猜想：

ASML说：中国快要突破22纳米光刻机了，再不卖，到时就不值钱了。我也要生存！

美国说：不担心！我给你出主意，DUV光刻机随便卖。设备配件坏时，只能从我这里出口。到时再限制出口，你钱赚了，我也达到了目的。