光刻机对于芯片制造的重要性如今已是不言而喻,在整个芯片生产流程中,有30%以上的工序,都要用到光刻机。而光刻机门槛颇高,使得目前仅有ASML、Canon、Nikon三家企业能够生产高端光刻机。
其中,ASML的高端光刻机出货量更是在全球占据90%的超高份额。EUV光刻机研制更是被ASML独占,处于垄断地位。EUV光刻机有着“半导体工业皇冠上的明珠”之称,据悉,其制造难度不亚于原子弹。那么,为何高端光刻机生产如此之难?
首先,光刻机是全球最顶尖科技的集合,其核心零部件技术难度都不低,有着最前沿的技术为依托。
其次,光刻机核心零部件将近10万个,这无疑是一项巨大的工程。
而这些零部件仅靠ASML不可能全部生产,因此,ASML光刻机将近90%的零部件由供应商提供。如何打通供应链,是一个不小的挑战。
这两大难题便挡退了不少想要进军光刻机领域的企业。更何况,光刻机生产技术、调试技术等,均是必须面对的难题。虽然我国光刻机落后,但在ASML光刻机10万个零件中,也有来自中国的企业的技术。赛微电子、福晶科技与蓝英装备子公司,便是ASML的三家中国供应商。
其中,兰英装备子公司供应的清洗设备,主要用于EUV光刻机光学系统的关键部件。
光刻机在制造芯片过程中,需要经过多次清洗,这就需要专门清洗设备的帮助。而英蓝装备子公司,便是光刻机清洗装备供应商中的一家。
赛微电子主要是ASML供应微机电系统MEMS。
赛微电子的MEMS虽然只有几毫米,但担任着十分重要的角色,负责EUV光刻机的微流控。
福晶科技的产品为光学元件,光源对于光刻机来说至关重要。
因此,光学元件对光刻机来说也很是重要。不过,福晶科技只为ASML提供极少量光学元件,还是需要进一步努力。
通过上述信息来看,中国企业的产品在光科技中,也有不错的发挥。但整体来看,中国企业在ASML供应链中所占份额较低,并且拥有可替代性。由此来看,中国芯片产业落后还是十分明显,需要进一步提升。
目前,中科院院长白春礼已经表态,将举中科院之力,发展光刻机等被卡脖子的产品等。希望有一天,中国也能有自己的高端光刻机,不必再受制于人。
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