中国人为什么研发不出顶尖光刻机？学者：资金与时间全都浪费掉了

中国在不断发展着，无论什么方面都在进步，经济发展至今成为世界第二大经济体，基建技术成为世界最顶尖，就连发展时间比较短的科技，都赶上了世界主流水平，然而问题来了，既然科技研发能力不错，却还是卡在了一个瓶颈。

光刻机就是一个大瓶颈，可以说世界上没有任何一个国家能够单单靠着一己之力将光刻机给研发出来，荷兰阿斯麦的光刻机依旧是集合了百家所长，才研究出来的，那么中国人为什么研发不出顶尖光刻机？学者：资金与时间全都浪费掉了。

中国人如今能够生产的光刻机，最好的就是上海微电子的28nm工艺光刻机，但是却比顶尖的光刻机落后了几十年，直到现在还卡在了瓶颈处，外国的顶尖的技术又进不来，自己又难以“憋”出来，其实其中最大的原因，真的是将资金与时间浪费掉了。

其实当年中国是世界首批发明出光刻机的国家，在1965年的时候就生产出来了，同一年的ASML还在摸爬滚打，但是制造光刻机所需要投入的时间与资金实在是太多了，特别是一己之力，这个时候就有人提出，造不如买，觉得买还便宜一点。

就这样，半导体电子行业一直依靠着进口，慢慢的别的国家熬过来了，技术成熟了，回本也快了，而再意识到光刻机重要性的时候，想要重新拿起来追上去，以及非常难了，这最重要的几十年时间里，没有关于光刻机任何的进展。

在资金方面更多的去投入其他科研，然而也有得有失吧，不够中国如今在光刻机方面上，还是拥有者很多的技术的，而且据说已经和日本的尼康合作了，相信创造出曾经的辉煌，只是时间的问题了。