光刻机好消息！中科院入局后，中国再添一员猛将！

光刻机，想必已经不用我们再多赘述，大家也都知道了光刻机对于芯片产业的重要性，尤其是对于采用先进工艺的芯片更是如此。

用之前中科院院长的话说，光刻机是被列为“卡脖子”清单中的成员。当然并不是说我们在国产方面没有自己的光刻机，只是在先进工艺上，目前还没有做到国产化。

所以前段时间我们就看到，中科院表示，要将一批“卡脖子”清单变为科研清单，上面也提到，光刻机赫然在列。

主要原因就在于，目前我们在芯片的设计方面，已经走到了世界的前沿，例如华为已经可以研发最为领先的5纳米工艺芯片，但是在芯片制造环节没有跟上，究其原因，还是要回归到芯片的制造设备上。

虽然这不是所有的原因，但可以归因为主要原因，关键在于，其中还涉及到一些核心的半导体原材料，例如光刻胶，有了EUV光刻机，也需要有配套的EUV光刻胶才能生产先进工艺芯片，但从排序上，还是要先有EUV光刻机才行。

中科院入局光刻机产业，可以说是对国产光刻机走向高端化，起到了一个催化剂的作用，但我们常说，人多力量大，更多的参与者进入，无疑更能起到催化效果。

现在我们就看到了这样的好消息，近日上海金桥金海园正式开园，在这次活动中，集中签约了一批旨在突破“卡脖子”的重点项目，其中光刻机项目就是其中之一。

在这次签约中，我们也看到了华为的身影，其中围绕光刻机项目的上海图双显然更能映入我们的眼帘。

上海图双计划在金桥68号地块进行投资建设，一期投资1亿元，主要用于光刻机、刻蚀机的再制造和研发项目。

对于再制造方面，可能大家还不是很了解，简单来说，就是对二手光刻机进行翻新改造，目前上海图双已经成功地对尼康、ASML所生产的光刻机，进行了翻新改造和安装调试。

尽管是对二手光刻机进行翻新改造，但显然如果没有一定的光刻机技术实力，也难以驾驭这样的工程。

事实上，上海图双也具备一定的光刻工艺优化和技术支持，而且我们翻看上面提到的新项目，其中就赫然写到会有光刻机的研发。

所以上海图双也算是光刻机领域的一员猛将，这无疑会增强国产光刻机的研发实力。

其实我们现在来看，国产光刻机的研发主力并不多，除了我们已经提到的中科院和上海图双，基本也就集中在上海微电子、中国电子科技集团公司第四十五研究所和开始走向攻坚“根”技术的华为。

所以每一个新成员的加入，都是一股可以期待的新生力量，都是对国产光刻机产业的有力支持。

我们虽然作为追赶者，但是也有有利的一面，根据目前市场领先者的经验，我们往往可以少走很多弯路，现在来看，在先进光刻机的研发上，主要的难点，在于攻破光源、光源功率、镜头等环节。

例如在光源上，最初可以选择的备选光源并不只有EUV，但经过两百多个行业专家论证后，肯定了EUV作为下一代光源的地位。

还有现在的ASML，虽然其已经可以生产EUV光刻机，但关键点在于如何提升生产效率，其中光源功率就是一个决定性的因素。

这些都是我们可以借鉴的宝贵经验，而且我们也不排除，后续还会有新面孔出现，所以我们拭目以待。