前段时间的芯片禁令暴露了很多的问题,把芯片的生产分成的三个阶段,分别是芯片设计,芯片制造和芯片封测,其中芯片封测最简单,芯片制造最困难,而我国目前只有华为掌握了5nm芯片的设计能力,而中国的芯片制造能力与荷兰的ASML相差了至少两代技术以上。
当时刚爆出这个光刻机的问题的时候,网上很多人都在讨论说,不就是一个光刻机嘛?能有多难,再难还能难过造原子弹?其实两者之间是根本没有可比性的。原子弹的技术含量远不及光刻机。为什么这么说?我给大家举个简单的例子。
你们知道世界上有多少个国家拥有原子弹吗?一共是9个,其中包括了伊朗和朝鲜,这样说大家能懂吧?连伊朗和朝鲜都能卯足劲研究出原子弹来,说明原子弹根本就没有那个困难。但是光刻机呢?高端光刻机全球只有ASML能造。
哪怕是以精工业闻名的日本和德国照样没有办法!ASML职员:不知道光刻机为啥难?精密程度相当于大米上写《红楼梦》,并且用光刻机技术在大米上刻《红楼梦》,不仅能全部刻下整部小说,同时在显微镜之下更是非常清晰。
由此可见光刻机的工艺精度之高,就像是华为研发出的麒麟9000芯片,精度为5nm,在那么小小的一块晶圆内,要刻下150亿个电子元件,其难度可想而知,这样你还会质疑光刻机的制造难度吗?
ASML的CEO曾经说过,就是将图纸给中国,中国也无法在短时间内造出光刻机来。我们在光刻机领域终究还是浸淫的时间太少了,所以很难完成短时间内的技术突破。给中国科学家们一些时间吧,光刻机技术中国势在必得!毕竟这代表的是现代科技的最高水准。
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