中国用实力打脸，国产光刻机成功落地，美国大跌眼镜：这也太快了

此前掌握光刻机核心的几个国家一度扬言，中国有图纸都制造不出高端光刻机，但近期随着国产光刻机成功落地，中国用实力打了外界的脸。

连美国也大跌眼镜称：这研制速度也太快了，对此有网友国产22纳米光刻机的成功研制，是否能助力华为摆脱艰难的处境？

近两年来由于华为的5G技术的出现，让一向在通信领域占据主导地位的美国坐卧不安，华为的5G不仅在技术上遥遥领先，而且采用的设备成本较为低廉。

眼看在该领域无法与华为比肩，美国便挥起了制裁大棒，先后出台一系列法案禁止购买华为通信设备，同时也勒令相关企业停止向华为供应芯片，这一举动给正在迅速崛起的华为当头一棒，让华为在全球的业务不得不临时中断。

究其原因都是华为没有能力制造高端芯片能力，不光是华为还有国内很多企业都不具备这项能力，高端芯片作为微电子领域的高技术代表，向来都是微电子行业的一大技术难点，里面涉及的技术非常复杂，像晶圆、封装、流片等芯片制造的黑话很多人听都没听过。

仅指甲盖大小芯片里面就包裹了数十亿个晶体管，毫不夸张的说高端芯片制造难度不亚于建造一艘航空母舰，而完成高端芯片的制造就不得不用到一件关键设备光刻机，但该设备全世界仅有3家能制造其中还不包括美国。

实际上在此前中国就有了制造芯片的光刻机，但技术水准还停留在28nm，始终没有取得进展，像华为手机所需要的7nm芯片仍旧无法生产，鉴于这种不利局面，国内企业纷纷开始全面进军高端光刻机领域，终于皇天不负有心人，在其不懈努力下，上海一家微电子公司在高端光刻机方面取得重大突破，成功研发出了22nm精度光刻机，这一成果无疑为华为高端芯片生产带来曙光。

尽管中国在光刻机技术上取得重大进步，但依然要看到与荷兰公司存在的巨大差距，要知道ASML的光刻机精度已经达到5nm了。

不过技术都是从无到有的一个过程，不可急于一时将步子迈的太大，只有稳扎稳打逐步优化，才能将更好的光刻机制造出来，这次中国开了一个好头，相信在接下来的日子里中国科研团队还会把新的捷报传来。

未来如果中国在光刻机技术方面实现全面突破，以美国为首的西方国家再想用技术封锁的伎俩卡中国脖子，用了也不一定能够如愿以偿，当下中国的科技水平在不断提高，对于自身的短板必定会加以弥补，美国等西方国家要明白这一点，合作共赢才是最好选择，别一意孤行搞封锁到最后让其得不偿失。