华为、上海微电子纷纷传来好消息，芯片和光刻设备将实现去美化？

半导体可以说是如今科技领域的热点，也是接下来各大国家的重点竞争版块所在。不可否认的是，美国现如今在半导体方面占据着一定的主导权，处于领先地位。

也正是因此，美国才能够通过切断半导体供应链、限制芯片出口等手段，对华为等科技企业实施制裁。由此可见，领先的半导体实力，是能够在现如今的科技竞争中确保自身的领先地位的。

在美国带来的“半导体压力”下，我国也意识到了芯片自给自足，掌握核心科技的重要性。近期以来，我国对于国内半导体产业发展的投入不断加大，力求早日实现中国半导体崛起的局面。

根据相关数据显示，目前我国市场中的半导体相关企业的数量已经高达27万多家。不难看出，半导体产业现如今在我国之内是十分火热的。而这一切的最终目的，就是能够在技术和设备上实现去美化，生产出真正的“中国芯”！

作为我国半导体产业的巨头，华为和上海微电子近期接连传来了好消息，下面就让我们一起来看一看。

首先先说华为。作为华为旗下的芯片设计公司，华为海思具备着极为优秀的芯片设计实力，甚至放在全球范围内，也是处于领先队列的。在11月底的时候，华为海思宣布：目前由该公司自主研发的OLED驱动芯片进展喜人，已经顺利地完成了流片流程，预计将在今年年底的时候进行量产。

此外，华为海思还表示，该芯片量产成功之后，将会应用于华为旗下的手机以及一系列大屏的数码产品之中。自主研发芯片的量产和应用，无疑打开了华为在自身产品中全面实现去美化的第一步。可以预见的是，随着研发进程的推进，华为今后还会将更多的零部件、设备以及技术全面替换为国产的。

而上海微电子（SMEE）作为我国光刻技术的领军者，如今也是处于持续发力的阶段。光刻技术和设备，可以称得上是芯片生产环节中必不可少的关键因素。想要实现中国芯的崛起，促进光刻技术和设备的自主化发展无疑是必须的。

近日，上海微电子宣布了一则利好消息：其预计将在2021年第四季度的时候，向国内的芯片制造企业交付一批28nm光刻机产品。值得一提的是，在这批光刻机产品的生产和研发环节之中，都全面地绕开了美国的技术以及设备，是真正意义上的国产光刻机。

虽然相比于如今光刻机领域的尖端水准，28nm的光刻机还是略显不足。但作为完全由我国企业自主研发的光刻机产品，这已经算得上是一个很好的开端了。相信有了这样的一个基础，之后我国在光刻领域之内的发展速度也会出现明显的提升。

华为和上海微电子传来的好消息，也直接体现出了我国如今推进半导体国产化的力度之大。在这种局面之下，相信未来我国的半导体产业必将逐渐摆脱对于美国的依赖。而到了那个时候，美国的一众半导体企业恐怕就将承受巨大的损失了。

事实上，微软的创始人比尔·盖茨也就此对美国作出过警告。

比尔·盖茨曾经表示：“美国的芯片出口限制，只会逼迫中国的半导体国产化加速。在这种情况之下，未来美国的半导体企业将失去一大海外买家，使得自身受损严重”。

这并不是“虚妄之谈”，在国家和我国的众多科技企业纷纷发力的情况下，相信我国的半导体企业实现赶超美国的日子并不会太远。试问，到了那个时候，一众中国企业还会愿意使用来自曾打压过自己的国家的半导体产品吗？答案显然是否定的！

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