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芯片制造关键之一——光刻胶
芯片生产过程整体上可以分为三个环节,分别是芯片设计、芯片制造和芯片封装。其中芯片制造是最硬核的一个步骤,涉及到各种顶尖的技术,设备和材料等等。
任何一个细节出现纰漏,都有可能影响芯片制造的效果。大家都知道光刻机对芯片生产有很重要的意义,但实际上芯片制造关键之一也包括了光刻胶。
如果说光刻机是制造过程中必不可少的设备,那么光刻机就是保证制造芯片前的关键。光刻胶作为一种有机化合物,在被紫外光曝光后,以液态的形式涂抹在硅片上,从而干燥成胶膜,保护硅片在光刻过程中的作业。
在芯片制造所涉及的材料上,光刻胶是不可或缺的。而光刻胶的应用领域非常广,包括在印刷工业领域。
只是由于集成电路产业规模的增长,加大了对光刻胶材料的应用。只不过光刻胶一直被日本企业垄断。包括东京应化,富士胶片等日本企业都是光刻胶领域的巨头。
因为在光刻胶产业有着极大的话语权,所以不少国家都要选择与日本合作,进购光刻胶。日本长期维持对光刻胶的垄断,但中国企业传来好消息,突破了关键芯片材料,打破垄断。
突破关键芯片材料
中国企业这些年在各项半导体集成电路领域一直在发展,其中涉及到芯片材料的光刻胶上也取得了进展。
据科创板日报消息,南大光电控股子公司自主研发的ArF光刻胶产品已经通过了客户认证,这次通过认证以后,意味着ArF光刻胶产品的开发和产业化取得了关键突破。这也是国内首个国产ArF光刻胶。
据了解,ArF光刻胶可以用在90nm-14nm,甚至是7nm芯片制程技术的应用,在高端芯片制造能发挥重要作用。
如今南大光电突破关键芯片材料,打破日本技术垄断,而且关键性堪比光刻机。虽然距离生产高端芯片还有一段路要走,但是每一次实现的技术突破,都是在为将来生产高端工艺芯片打下基础。
芯片设计有华为海思、芯片制造有中芯国际、芯片材料有南大光电,还有光刻机设备制造也有上海微电子。
集合这么多的顶级科技力量,相信未来我们能够在更多的关键技术上迎来突破。
芯片制造产业的进展
芯片制造是一项复杂的过程,从设计到制造,再从制造到封装,一颗小小的芯片能够被生产出来,背后有太多的不容易。
但是这并不代表会放弃,相反还会激励我们不断向前。前有华为突破5nm设计芯片,后有南大光电打破日本技术垄断,带来ArF光刻胶,为中国芯片制造产业做出巨大贡献。
在芯片制造产业的进展已经非常迅速了,比如中芯国际在梁孟松的帮助下,从三年前的28nm到今年量产14nm,最快明年就能尝试生产7nm芯片。将来要是能获得EUV光刻机,更高的5nm,以及3nm都开始进行研究。
为了鼓励芯片制造企业加强技术研发,我国给予最高免税十年的待遇。还要培养半导体人才,这一切都说明,以前落下的功课,我们正在补上。所有取得高分的学霸,都是一点一滴积累起来的。
总结
南大光电在ArF光刻胶上取得突破,完成了客户认证。这仅仅迈出了第一步,还有第二步,第三步。像南大光电这类的企业在我国还有很多,他们都在默默为中国半导体付出。
曾几何时,国产芯片有这么快的进展速度。因为华为让我们认识到自主技术的重要性,只有掌握核心科技才能睡上安稳觉。期待国产半导体能取得更大的突破。
对南大光电突破ArF光刻胶你有什么看法呢?
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