芯片作为当今社会各个国家所需要的一款高精尖材料,多年来一直以西方国家的研究成果最为突出。毕竟全球工业革命率先从西方开始,为此也让这些国家掌握全球高端技术发展的“命脉”。毕竟无论是在超级计算机领域还是在手机领域,均需要一款强大的芯片作为支撑。由于我国存在巨大的科技欠账,在芯片领域可谓是落后太多。而且核心技术光刻胶也一直被西方国家封锁,甚至想要通过这一技术来卡中国的“脖子”。
据悉光刻胶主要是用于微电子技术中微细图形加工,尤其是在大规模的集成电路中,更是有着无比重要的作用。要知道光刻胶也分为很多种,根据不同的化学反应可以分为负性胶和正性胶两种,区别就在于光照后是否可溶。利用这一特性将其涂抹在硅片表面,便可完成对电路图形的侵蚀。目前有四大类,分别是光聚合型、光分解型、光交联型、含硅光胶等等。但是我国在这一领域有着巨大的欠缺,为此只能选择另辟蹊径采用冰刻法。
这种方法主要是将水进行汽化,以此让其结成冰,随后再进行雕刻,最终让其对电路形成侵蚀。之所以西方国家没有采用这一技术,完全是因为冰刻法在全球范围内属于冷门行业,而且西方的光刻胶技术已经十分成熟。在其看来完全没有必要“走弯路”,但是对于中国而言,无论是选择光刻胶技术,还是选择冰刻法,对于我国并没有任何区别。
此外冰刻法与光刻胶技术相比更具有含金量,目前也就丹麦和中国拥有冰刻实验室。而且中国的冰刻机也得到联合国的承认,为此外界认为在这一领域中国虽然起步较晚,但是却再次领先全球国家。也为加快中国芯片技术进步,注入了一剂“强心针”。最终重要的是,随着中国冰刻法取得成功之后,意味着我国再一次打破西方垄断,此后将会加快芯片的研制速度。
对此可以说,经过中国数十年的发展,如今又成功掌握一项核心技术。毕竟多年来我国不断提升本国实力,为的就是能追赶发达国家的步伐。如今看来我国的综合国力不断得到提升,在不久的将来必定可以与发达国家并肩前行。
编辑:华强
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