关于EUV光刻机，阿斯麦尔正式宣布，张召忠果然没有说错！

由于美国修改了芯片行业的管理规则，致使所有采用美国技术生产芯片的半导体无法自由出货。

全球半导体行业也因此开始产生动荡，越来越多的国家开始筹备自己的半导体芯片供应体系。比如欧盟旗下的17个成员国，就在前段时间联合签署了《欧洲处理器和半导体科技计划联合声明》，预计投入1450亿欧元，用来发展自己的芯片制造技术。

美国技术对于很多半导体企业而言，成为了一种约束。因此有更多的企业在芯片制造环节开始“去美化”，但迈入高端芯片制造领域，光刻机就成为了摆在国内芯片制造业的第一个难题。

尤其是在高端的EUV光刻机上，全球目前只有一家能够制造该设备的公司，荷兰阿斯麦尔。

随着中科院布局光刻机等尖端制造技术，这家光刻机巨头对国内市场的态度也开始有所转变。该公司高管就曾公开表态，其DUV光刻系统可以继续出口给国内企业。

但就高端芯片所需要的EUV光刻机，阿斯麦尔的态度一直飘忽不定。眼看越来越多的国家开始发展自己的芯片制造产业，阿斯麦尔终于还是坐不住了，就EUV光刻机进行了表态。

据国内媒体爆料：中芯新任董事蒋尚义在与阿斯麦尔进行谈判，而谈判的内容就是采购EUV光刻机的相关事宜。

此前，由于《瓦森纳协定》以及美国所造成的影响，中国企业采购的EUV光刻机迟迟不能够发货。

在国内企业的争取之下，阿斯麦尔对外界回应：“中国区域的客户会被平等对待，向中国企业销售EUV光刻机并不会违反相关的协定。”

从阿斯麦尔的表态来看，目前针对国内市场提供EUV光刻机，并不会违反什么规则。这对于国内的芯片制造企业而言，将会是一个好消息。

此外，阿斯麦尔已经研发出了可用于3nm以下工艺的NA EUV光刻机，常规的EUV光刻机已经不再是其最顶尖的光刻机产品。

从这一点来看，阿斯麦尔EUV光刻机产品，很有可能会陆续面对中国市场开放销售。

此外，国产芯片也有越来越多的好消息传出，证实了芯片的国产化在不断地向前推进。

张召忠果然没有说错！

我国专家张召忠就曾表示，美国限制中国芯片三年的时间，中国芯片将会完成自给自足。如今，国产芯片已经开始向7nm领域进军，在获得EUV光刻机之后，就会向更高端的芯片制造技术迈进。

同时，中科院旗下的研究所，已经开发出了首款8英寸的石墨烯晶圆。在第三代的半导体技术上，国内已经开始有所领先。中国是目前全球最大的半导体市场，约占全球市场的60%，在市场的庞大需求之下，国产IP芯片的问世也会越来越多。

写在最后

任何企业都无法脱离市场进行运作，美国采取的芯片禁令已经导致了全球半导体企业蒙受损失。在这样的局面之下，越来越多的国家开始发展自己的半导体技术，这对于美国科技产业的霸权而言，将会带来不可逆的影响。此消彼长之下，国产芯片定会谋求出新的出路。

即便ASML受干涉无法为国内企业供应EUV光刻机，国产光刻机也有望在2030年完成自己的EUV光刻机设计。对此，你是怎么看的呢？欢迎大家留言讨论！