再见ASML！国产光刻机迎来“猛兽”，任正非预言再成真

任正非曾经说过，华为不能既设计芯片，又去制造芯片，而以现在国产芯片的制造能力看来，华为所设计出来的芯片，没有一家企业能够胜任。这是中国半导体所存在的痛点。

缺芯少魂

“缺芯少魂”一直都是我们未能攻克的难题，也是整个中国半导体行业所面临的巨大的挑战。芯指的是芯片，而魂指的就是芯片制造的必要设备光刻机了。面对这两个难题，相信很多国产企业都是非常无奈的。

要知道，现在对于半导体领域来讲，IDM模式是主流，所谓的IDM模式，其实就是指从设计、制造、封装测试到销售自有品牌IC都一手包办的半导体垂直整合型公司。而现在我们除了光刻机领域上所面临的差距比较大之外，在生产制造以及设计材料等等方面，我们的差距并不是很大。在封装测试方面，我们其实早就已经走在了世界前列

正是因为我们在这上面面临着短板，所以才使得光刻机易时间成为了众人关注的焦点，专家还表示，究其此次芯片禁令的根本原因，就是光刻机。严格意义上来讲在，这么讲其实是没有错的。作为芯片制造的最重要的设备，光刻机的难度非常大。

提到光刻机的话，不得不说的就是荷兰的ASML了。在芯片制造商的严重，ASML就是他们眼中的救星。没有哪家芯片企业能够离得开荷兰的ASML。其最先进的光刻机系统以及EUV眼膜检测设备，能够确定的是用在10纳米以下的工艺节点的制造设备，是能够生产处5纳米以及7纳米芯片的。

换句话讲，我们在芯片的制造设备上，存在极大的差距。不过光刻机并不是一项不能攻克的难题，相信我们只要潜心研究，就一定能够做出一定的成就。而我们之所以会在芯片的问题上进展到那个时候得这么慢，究其根本原因，就是因为我们在解决问题的路上，没有一个合作伙伴。

国产光刻机迎来猛兽

这便导致即便是上上海微电子已经研究出了28纳米制程的光刻机，却没有企业愿意使用，但是其实只要有人能够站出来，配合一下，投入一定的人力材料，就能够得到这种产品的验证，相应的我们所面临的问题也将会凸显出来，这样一来剩下的就比较好办了，既然问题出来了，那么就要相办法去解决问题。

如果说真的能够合作的话，那么相信上海微电子所研究出来的这三种28纳米制程的光刻机一定能够成为一只猛兽，要知道这种光刻机是没有用到任何的美国技术以及材料设备的，也就是说这是我国自主研发的光刻机。在将来的发展之中，相信这条光刻机一定能够发挥出巨大的作用，到那个时候，我们就能够真真正正地跟ASML说再见了！

任正非预言成真

任正非早前曾经说过，美国的技术就像是高山上的雪，如果雪水不再留下来，那么山下的人就会自己动手打井挖水喝，也就是说，如果美国不再提供相关的技术，那么我们就会在这个领域上进行深耕，直到有一天我们能够将这项技术完全掌握在我们自己的手中。

这样看来，任正非似乎又说对了。其实不管是在芯片领域也好还是在光刻机领域也好，我们现在所面临的问题，是我们总有一天不得不去面对的。

技术没有掌握在我们自己的手中，即便是没有此次的芯片禁令事件，我们依旧是活在别人的阴影下，美国还是想要打压就能够随意对我们进行打压。但是如果我们真正掌握了芯片技术以及光刻机技术，那么想要打破国外的技术垄断就不再是问题，届时我们怎么还会害怕美国或者是其他的国家对我们进行打压呢？