日企正式宣布，华为机会来了，ASML这次却被“坑惨了”

ASML的坚持

在半导体世界中，光刻机行业被放到了极高的位置上，因为光刻机精度水平的发展直接影响着全球半导体芯片领域的发展。

同时因为光刻机研发过程极为复杂，所以到目前为止也仅有ASML一家公司能够开发出高精度EUV光刻机，也就是说ASML公司直接掌握着全球高精度半导体芯片生产的“命脉”。

而我国市场作为全球最大的半导体需求市场，本来应该会成为ASML公司重点发展的市场，但是偏偏到目前为止，我国的芯片制造企业无法从ASML公司进口一台EUV光刻机。

中芯国际在2018年向ASML公司购买的7nm精度的EUV光刻机到现在都无法获得，而ASML公司之所以这么做全都是受到了美国相关禁令的影响。

不过，ASML公司的这种坚持不向我国市场供应高精度EUV光刻机的做法，却给了我国和一些海外市场不同的想法，首先在我国市场上决定全力投入高精度EUV光刻机技术的研发，目前中科院正在从事这项工作，其次海外一些光刻机生产公司看到了机会，认为这是打入中国市场的好时机。

日企正式官宣

而就在这个时候根据日经中文网1月5日消息显示，日本光学设备制造企业佳能正计划靠提升光刻机的生产效率来抢占市场，同时佳能还将在停止7年之后，重新向市场推出新的高效率光刻机。

另外，日本知名零部件制造商东京电子也开始投入研发经费攻克EUV光刻机等相关技术。

日企的种种行动都标志着，它们准备开始和ASML公司抢中国市场了，因为从佳能7年不生产光刻机的行动来看，在一定程度上佳能几乎是放弃了光刻机业务板块，毕竟ASML对于光刻机市场的占有率实在太强了，让佳能根本失去了竞争力，但是现在随着ASML公司的停止对我国市场的进入行为来看，给了佳能等日本公司希望。

而在日企奋力发展光刻机技术的同时，华为的机会也来了，根据11月份消息显示，当前华为正计划在上海建立芯片制造工厂，而这所工厂将全部不含美国技术，但是这无疑会影响到这所芯片制造工厂的芯片制造精度，不过如今随着日企的入局，算是给了华为一个新的光刻机的选择渠道，将有利于华为芯片工厂的产线效率。

ASML被“坑惨了”

相较于日企在光刻机领域焕发新生，ASML这次却要被美国“坑惨了”，因为如果ASML公司依旧在长时间无法将自家的EUV光刻机打入我国市场，那么无疑会促进日本企业和我国科研机构自研高精度EUV光刻机的投入，长此以往下去，EUV光刻机技术一定会被突破。

届时，ASML公司在EUV光刻机领域一家独大的局面将瞬间失去，这对于ASML公司的市场份额将造成极大影响，而这一切的起因都是受到了美国相关条例的限制。

总结

虽然有日本企业的加入，对于我国高精度光刻机的需求能够有所帮助，但是自研高精度EUV光刻机是我国必须面对，也必须突破的领域，因为只有这样在未来的国产芯片发展道路上，我国才可以少受一些外在因素的制约，我国才真正能够进入芯片强国之列。

你觉得我国需要多久才能够打造出自己的EUV光刻机呢？